高密度等离子体刻蚀系统中诊断模型的初步分析.pdfVIP

电子测量与仪器学报 2004年增刊 高密度等离子体刻蚀系统中诊断模型的初步分析木 王巍陈大鹏刘明叶甜春李兵 (中科院微电子研究所，北京市l00029) 摘要：高密度等离子体刻蚀已经广泛运用于深亚微米的微电子制造工艺中，并成为制约着产能及器件性 能的关键步骤，因而有必要对等离子体刻蚀过程进行原位的实时监控。而利用传统的线性回归方法已经无法 对包含有数目众多的变量的谱图数据进行实时分析了，必须采用新的数学模型，对原始数据进行压缩处理。 本文结合实例讨论了目前在等离子体刻蚀系统中用到的诊断模型：主元素分析法以及神经网络法。 关键宇： 等离子体刻蚀等离子体诊断实时分析主元素分析法神经网络法 for Modelsin Hasm Used PrimaryAnalysis lIigh Dia