平面磁控溅射镀膜靶材光学薄膜用铌靶-中国有色金属标准.docVIP

前 言 本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。 本标准由利达光电股份有限公司负责起草。 本标准主要起草人：李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、黄学军、赵伦、张向东、齐志国。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会负责解释。 平面磁控溅射镀膜靶材 光学薄膜用铌靶 范围 本标准规定了的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输存。 本标准适用于。 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 GB/T 1250 极限数值的表示方法和判定方法 GB8170 数值修约规则GB/T 10562 金属材料超低膨胀系数测定方法GB/T 1031 表面粗糙度 参数及其数值 GB/T 11337平面度误差检测 Ω·cm。在数值上等于长1m截面积为1mm2的导体，在温度20℃时的电阻值。 3.7 线膨胀系数 Linear expansivity 固体物质每单位温度变化时其长度变化的分数。当温度上升℃时，固体样品的长度从变化到，那么线膨胀系数（）可通过下式得到： ＝（1+） 4 技术要求 4.1 材质 背板（铜）和铌板。 4.2 化学成分 4.2.1