芳环上亲电取代的定位规律及合成运用指导.pptVIP

芳环上亲电取代的 定位规律及 合成运用 什么是：定位效应？ (1)甲苯硝化时，NO2+主要进攻甲基的邻、对位，且比苯易； 第一类定位基 ——甲基 邻、对位电子密度高于间位，亲电试剂E+首先进攻邻、对位，甲基是邻对位定位基。甲基具有+I和供电子的超共轭效应+C ，使甲苯中苯环电子密度增大，亲电取代反应比苯容易 ——羟基 +C大于 -I，净结果是苯酚中电子密度比苯大。亲电取代反应也比苯容易 ——硝基 硝基苯中硝基的间位电子密度高于邻对位，亲电试剂E+首先进攻电子密度较高的间位，因此硝基是间位定位基。硝基的-C和 -I使硝基苯中苯环每个碳原子的电子密度都降低（与苯相比），亲电取代反应比苯困难 （2）定位基的立体效应 ——苯环上有邻对位定位基时，生成的邻位和对位产物之比与苯环上定位基和引入基团的体积有关：两种基团体积越大，空间位阻越大，邻位产物越少。 新引入基团的空间效应，对异构体的影响。 萘环上的定位规律 α－位：有第一类定位基。 β－位：有第一类定位基。 因萘的α-位电子云较高，反应所需的活化能ΔEα较低，在较低的反应温度下即可完成，反应是受动力学控制的。但因磺酸基的体积较大，它与8 – 位上的氢原子之间的距离＜H 与 SO3H 的半径之和，故α-萘磺酸的稳定性较差。