黄光工艺介绍-20121230.pdf

黄光工艺介绍 黄光工艺介绍 Profile of Photo process Profile of Photo process 2012-12-29 1、黄光制程定义-核心技术及名称的来源 1、黄光制程定义-核心技术及名称的来源 黄光工艺使用的技术 黄光使用的技术为微影 (Lithography) 技术，使用的材料为感光材料，这 种材料称之为光阻（PR,photo resistance)。PR具有独特的特性，在UV光的作 用下，会发生化学变化，变成易容与酸或者碱的新物质。 微影 (Lithography) 技术是将光罩 (Mask) 上的图案先转移至PR上，再以 溶剂浸泡将PR受光照射到的部份加以溶解或保留，形成和光罩完全相同或呈互 补的光阻图。 黄光制程名称的来源 由于微影制程的环境照明光源是黄光，而非一般摄影暗房的红光，所以这 一制程常被简称为“黄光”制程。 黄光制程线路精准度水平高，被广泛应用在电容式触摸屏sensor的加工。 2 、黄光制程的曝光原理—正负光阻 2 、黄光制程的曝光原理—正负光阻 UV光源 曝光前 Mask光罩 PR 光阻 ITO film Mask光罩 曝光后 PR 光阻 ITO film 未被mask遮挡的PR曝 未被mask遮挡的PR曝 光后变成不溶于碱的物 光后变成溶于碱的物 质，形成负性光阻图案 质，形成正性光阻图案 3、黄光制程的流程 3、黄光制程的流程 ITO 基材退火 1 基材 ITO缩水 PR 光阻 批附光阻 压干膜 2 ITO 基材 UV光源 UV通过光罩上的图案，照射到 3 光罩图案 光阻膜上去，制出光阻图案 （PR被UV照射后，发生化学变 曝 光 PR 光阻 ITO film 化，但是物理形态没有变化，所 基材 以生成的光阻图案肉眼不可见） 光阻图案 碱性溶液中，在光阻膜上形成与 显 影 4 ITO film 光罩图案相同或者互补的光阻图 基材 案 光阻图案 5 ITO 图案 酸性溶液中，未被光阻图案遮 蚀 刻 基材 挡住的ITO被溶解，形成ITO图