用AFM拼接缝与技术分析大的样品表面.doc

利用原子力显微镜拼接缝和技术分析大的样品表面 摘要： 应用注释描述了全自动大样品原子力显微镜脚本界面和Nanosurf专业报告分析软件自动拼接缝和时的特点。在液晶面板上进行原子力显微镜测量常常以案例的形式被用来展示怎么样进行拼接缝和才能简单高效的形成有关大表面区域高分辨率的形貌图。 介绍： 高分辨率的成像技术如原子力显微镜的成像技术等常常在扫描的最大范围上受到限制，而成像拼接缝和技术可以同时满足原子力显微镜对横向分辨率和较大的扫描范围要求。成像拼接缝和技术用于将许多单一的图片拼接成整体。甚至它也可以进行多次原子力显微镜测量轻易的形成一幅大的成像，如1 毫米× 1毫米 或者100微米 × 1 微米大小。 全自动大样品原子力显微镜完全能够自动测量和拼接缝和所要求的成像。用户只需说明需要测量的单个原子力显微镜成像的大小及其被测量区域即可，余下的工作原子力显微镜自动完成。测量完成后，成像将被上传到Nanosurf专业报告处理软件接缝合成一幅大的的成像（整体）。这张成像仍含有所有的计量数据，而且能够像其他的携带有可用分析功能的原子力显微镜成像一样，在高度和距离测量，粗糙度计量，谷粒和颗粒分析，切面分析，当然还有三维可视化等方面都能够被分析。 液光面板的“像素”成像 现代的平面屏幕生产制造技术（等离子，薄膜晶体管液晶显示器，有机发光二极管）都是建立在多层处理的基础上而产生的小而复杂的三维表面结构。光学显微镜不适宜用来验证三维中类似表面结构的完整性和质量标准。特别是在微米以下状态中的失效分析。从另一方面而言，微米以下精度的原子力显微镜是测量三维轮廓数据的理想方法。在拼接缝合技术下，它能够在大的表面区域内被完成，比如说液晶显示屏幕。 图1显示的是一块液晶显示屏幕在光学显微镜120倍放大情况下的成像。与截面对应的屏幕像素附在红色框里。测量的407 微米 × 407 微米的这个区域比被原子力显微镜在正常情况下所显示的区域（相对应的白框里）要大得多（图1）。图2显示的是在白框区域的真实的原子力显微镜测量。原子力显微镜同光学显微镜相比的优势在于—可以获得较高的分辨率和三维数据变得更清晰明显。 图1 图2 图1：液晶面板的光学显微镜成像。图像（660 微米× 660 微米；此图是放大120倍后的成像）是在实用型显微镜下测量完成的。大的红色框覆盖着单个的液晶显示屏“像素”。而小白色框相对应的区域被原子力显微镜的扫描范围基本上覆盖。如下图2所示： 图2：原子力显微镜对标准液晶面板区域的扫描。在有限的扫描区域获得高分辨率的形貌数据。扫描相对于的大小74 微米x 74 微米，如图1中白色框所示。 图3：在Nanosurf控制软件中固定脚本运行。红色对话框是拼接缝和对话框，要求用户为拼接缝和程序提供基本的参数。 要得到一张完整的液晶显示器像素图，需要在原子力显微镜下扫描出更大的范围以获得单一的成像。克服这个难题的方法在于对自动测试的多个样品区域下形成的原子力显微镜成像进行拼接缝和。这种方法的可行性在下面的例子中将得到证明。下面阐述了一个5×5的原子力显微镜液晶面板矩阵图是怎么样被拼接缝合成一幅的成像的。用于这个程序的仪器是带有自动调谐系统的A100自动移动平台的Nanosurf Nanite B原子力显微镜。 图4：Nanosurf专业报告软件中的拼接缝和模块界面。简单的指令输入可以使任何人在操作拼接缝和程序时产生专业的结果。 图5：三位再现拼接缝和的原子力显微镜成像。成像（相对应的拼接缝和建图4）经过了200倍的放大，这也就证明了高分辨率的三维数据通过Nanosurf Nanite B原子力显微镜和自动移动平台可以轻易的获得，同时也证明了拼接处理程序在这方面的能力。 先将液晶显示器样品安置在移动平台上，然后将原子力显微镜悬臂探针放置在自己感兴趣的区域，然后开始拼接脚本（图3）。在理想的参数设定下，原子力显微镜系统自动的获取所有成像，存储所有的测试文件，并将他们转移到Nanosurf专业报告软件，在那里拼接程序模块将拼接所有的文件（图4）。有关三维的结果成像如图5所示，显示了拼接处理程序在将所有的单一图片合并成一幅图片时的能力。 对许多单张的原子力显微镜成像（10×10）进行拼接处理形成了一幅大的关于液晶面板（(560 微米 × 570 微米，切掉毛边之后)表面区域的高分辨率形貌图（图6），大小与图1中的光学成像类似。许多完整的液晶显示屏像素能被清晰的区分。在液晶面板生产质量控制方面，如此大表面原子力显微镜数据的应用为相关的个体微加工处理程序提供了详细的信息，并允许分批批准或驳回的产品的存在。另外，这些由原子力显微镜测量所得的信息—特别是原子力显微镜测量横跨大表面区域时，像拼接那样—甚至能被用来为