光学干涉仪在光学薄膜制备中的应用.pptx

光学干涉仪在光学薄膜制备中的应用汇报人：2024-01-21REPORTING

目录光学干涉仪基本原理与技术光学薄膜制备技术概述光学干涉仪在薄膜厚度测量中应用光学干涉仪在折射率测定中应用光学干涉仪在表面形貌表征中应用总结与展望

PART01光学干涉仪基本原理与技术REPORTING

当两束或多束相干光波在空间某一点叠加时，由于光程差的存在，使得叠加后的光强在该点呈现加强或减弱的现象，称为干涉现象。干涉现象光学干涉仪利用干涉现象来测量光学表面反射相移或透射相移的变化，从而得到光学表面的形貌、折射率等信息。其基本结构包括光源、分束器、反射镜、探测器等部分。干涉仪工作原理干涉现象及干涉仪工作原理

斐索干涉仪01利用分振幅法将入射光分为两束，分别经过参考面和待测面反射后叠加产生干涉。具有高灵敏度、宽测量范围等优点，但需要精确调整光路。迈克尔逊干涉仪02采用分振幅法将入射光分为两束，分别经过两个反射镜反射后叠加产生干涉。具有结构简单、稳定性好等优点，但测量精度相对较低。牛顿环测量仪03通过测量待测透镜表面反射相移与参考面反射相移之间的差值来得到透镜表面反射相移的分布情况。具有高分辨率、非接触测量等优点，但测量范围较小。常见光学干涉仪类型及特点

分辨率：指干涉仪能够分辨的最小相位差或最小光程差，是评价干涉仪测量精度的重要指标。稳定性：指干涉仪在长时间使用过程中保持测量精度和稳定性的能力，是评价干涉仪性能的关键因素之一。动态范围：指干涉仪能够测量的最大光程差范围，反映了干涉仪的测量能力和适用范围。灵敏度：指干涉仪对相位差或光程差变化的响应程度，即测量结果的输出变化量与输入变化量之比。高灵敏度意味着干涉仪对微小的相位差或光程差变化也能产生明显的输出信号，有利于提高测量精度和分辨率。干涉仪性能指标评价方法

PART02光学薄膜制备技术概述REPORTING

利用物理过程，如蒸发、升华或溅射，将材料从源转移到基片上形成薄膜。此方法适用于高熔点、化学性质稳定的材料。物理气相沉积（PVD）通过化学反应在基片表面生成薄膜。此方法可制备多种材料薄膜，且薄膜纯度高、致密性好。化学气相沉积（CVD）将金属醇盐或无机盐溶于有机溶剂中形成溶胶，然后通过凝胶化、干燥和热处理等步骤制备薄膜。此方法适用于制备氧化物、氮化物等无机薄膜。溶胶-凝胶法薄膜制备方法及原理

选择具有合适折射率、消光系数等光学常数的材料，以满足特定波长范围内的光学性能要求。光学常数机械性能化学稳定性薄膜应具有良好的机械强度、硬度和耐磨性，以保证在实际应用中的稳定性。薄膜材料应具有良好的化学稳定性，以抵抗环境因素（如氧化、潮湿等）的侵蚀。030201薄膜材料选择与特性分析

评价薄膜的透过率、反射率、吸收率等光学性能参数，以确保满足设计要求。光学性能通过原子力显微镜（AFM）或扫描电子显微镜（SEM）等手段评价薄膜表面的粗糙度、颗粒度等形貌特征。表面形貌利用椭偏仪等测量手段评价薄膜的厚度及其均匀性，以保证光学性能的稳定性。厚度均匀性通过划痕试验、百格试验等方法评价薄膜与基底的附着力，以确保在实际应用中的可靠性。附着力薄膜质量评价标准

PART03光学干涉仪在薄膜厚度测量中应用REPORTING

利用光波在薄膜上下表面反射后产生的干涉现象，通过测量干涉条纹的间距、数量等参数，推算出薄膜的厚度。包括透射式干涉法、反射式干涉法等。透射式干涉法适用于透明薄膜，而反射式干涉法适用于不透明或反射性较强的薄膜。厚度测量原理及方法介绍常见测量方法光学干涉法测量原理

无需与薄膜表面接触，避免了对薄膜的破坏或污染。非接触式测量通过精确测量干涉条纹的间距和数量，可以实现微米甚至纳米级别的厚度测量精度。高精度测量干涉法测量厚度优势与局限性

宽测量范围：适用于不同厚度和折射率的薄膜测量，具有较宽的测量范围。干涉法测量厚度优势与局限性

03受环境因素影响温度、湿度等环境因素的变化会对测量结果产生影响，需要进行相应的校准和修正。01对光源要求高需要使用单色性好、稳定性高的光源，否则会影响测量精度。02对薄膜表面要求高薄膜表面需要平整、清洁，否则会影响干涉条纹的清晰度和测量精度。干涉法测量厚度优势与局限性

实验结果展示与数据分析实验结果展示通过光学干涉仪对某透明薄膜进行测量，得到干涉条纹图像和相应的数据。数据分析方法对干涉条纹图像进行处理和分析，提取出条纹间距、数量等关键参数，并根据测量原理计算出薄膜的厚度。数据解读与讨论将计算得到的薄膜厚度与已知标准值进行比较，分析误差来源并讨论可能的影响因素，如光源稳定性、薄膜表面质量等。

PART04光学干涉仪在折射率测定中应用REPORTING

折射率的定义折射率是光在介质中传播速度与在真空中传播速度的比值，反映了介质对光的折射能力。测定方法分类折射率测定方法主要分为几何