曲面激光直写中的光焦点定位控制.pdfVIP

浙江理工大学学报，第30卷，第3期，2013年5月 of Journal Sci—Tech Zhejiang University 2013 V01．30，No．3，May 文章编号：1673—3851(2013)03—0336—04 曲面激光直写中的光焦点定位控制 王俊茹，罗剑波，赵新龙，王惠姣 (浙江理工大学机械与自动控制学院，杭州310018) 摘要：探讨了曲面激光直写系统中的光焦点定位控制方法。曲面激光直写中光焦点的定位控刺要求定位范 围毫米级，而定位精度则在亚微米级，因此选用了宏／微双驱动系统。对宏／微双驱动系统进行了动力学建模，并进 行了分析。探讨宏／微双驱动系统在直写先刻中的控制方法，对所设计的宏／微双驱动系统进行了实际的测试实验。 结果表明：所设计的宏／微双驱动系统在曲面激光直写系统中是可行且有效的。 关键词：曲面激光直写；定位控制；宏／微双驱动系统 中图分类号：TH一39 文献标志码：A 需要根据所检测的焦点误差(FES)信号，对光刻物 0引言 镜或光焦点进行定位控制，使光焦点与曲面基片曝 曲面激光直写是激光直写的一个重要发展方 光区域表面之间的距离处于系统焦深(DOF)之内。 向，也是实现曲面微器件制作的一个重要技术手段。 一般对于曲面光刻而言，该DOF值约在1弘m以 曲面激光直写系统一般主要由光焦点检测、光焦点 下[4]。此外在曲面基片光刻过程中，不同曝光工作 控制、曝光系统、工作台定位控制等部分组成。基本 点深度方向上最大误差可以达几毫米。因此在曲面 原理是，利用光焦点检测与控制系统将曝光光束聚 激光直写系统中，光刻物镜或光焦点的定位范围要 焦至涂覆有对光束敏感的光刻胶进行曝光，通过曝 求在毫米级，而定位分辨率和精度则需要在亚微 光光束的扫描形成微结构图形潜像，最后可通过显 米级。 影、蚀刻等手段将图形转移至曲面基底[1]。显然在 这过程中，光焦点的检测与控制是整个曲面激光直 1 光焦点定位系统及其动力学模型 写系统的核心和关键。 1．1光焦点定位系统 曲面激光直写系统的研究目前尚处于起步阶 段，而对于曲面上焦点控制方面的研究则更少。比 根据上述要求，在此设计了一种宏／微双驱动系 较有代表性的研究包括通过旋转曲面基片及光路使 统来实现光焦点在曲面基片上的定位控制，如图1 光束相对基片垂直，在此基础上进行焦点检测及控 所示。图1中，检测用激光光束(红光，波长671 制[23；以及通过三维笛卡尔轴利用直线编码器进行 nm)经分束器1、分束器2后入射至光刻物镜(奥林 焦点的定位控制[3]。前者控制复杂且实时性差，而 巴斯UplanFI 后者则未能反映基片实际形貌，本质上应是一种开 刻物镜将光束聚焦至曲面基片上的光刻胶涂层表 环。本文提出了一种光焦点曲面基片上的定位控制 面。调焦机构根据FES信号利用宏／微双驱动系统 方法，旨在解决上述问题。曲面激光直写系统在曲 (也即图中的Z向宏动以及Z向微动)控制光刻物 面基片上曝光光刻的过程中，直写系统的调焦机构 镜来实现光焦点的Z向定位。 收稿日期：2013一01--05 作者简介：王俊茹(1974一)，女，河北沧州人，硕士，讲师，主要从事精密检测技术的研究。 万方数据 第3期 王俊茹等：曲面激光直写中的光焦点定位控制 337 式(2)中，U为压电陶瓷充