3氨基124三氮唑自组装膜对CuNi合金缓蚀作用及吸附机理研究.pdfVIP

第44卷 第2期 No．2 金属孝跋 ．V．01．44 2008年2月第203--208页ACTAME7IALLURGICASINICA Feb．2008 PP．203-208 3一氨基一1，2，4一三氮唑自组装膜对Cu-Ni合金 缓蚀作用及吸附机理研究 ：Ic 万宗跃，，。) 张利s)印仁和z)徐群杰·，。) 陈浩·) 朱律均·) 周国定z) 1)上海大学理学院化学系，上海200444 2)上海电力学院环境工程系，国家电力公司热力设备腐蚀与防护重点实验室，上海200090 3)阿美特克有限公司上海代表处，上海200030 摘 要 学方法研究ATASAMs对Cu--Ni合金的缓蚀作用及其吸附行为．结果表明，』虹IA分子易在Cu—Ni合金表面形成稳定的 ATA SAMs，抑制了Cu--Ni合金的阳极氧化过程，改变了电极表面双电层结构，使零电荷电位正移，固／液界面双电层电容明 显降低，有良好的缓蚀效果，这与交流阻抗和极化曲线得到的结论一致．同时研究表明ATA的吸附行为符合Langmuir吸附等 温式，吸附机理是典型的化学吸附． 关键词 Cl卜Ni合金，3～氨基一1，2，4一三氮唑。自组装单分子膜，缓蚀，吸附 中图法分类号0646．6 文献标识码A 文章编号0412—1961(2008)02一0203一06 ANTICoRRoSIoNANDADSoRPTIoNMECHA． ACTIoN NISMoFTHESELF—ASSEMBLEDMoNoLAYERSoF ALLoY oNCu—Ni 3一AMINo一1，2，4一TRIAZoLE wAN U Li3)．YINRenheI)．XU Ha01)．ZH ZongyueI∞。ZHANG QunjieI固。cHENL五junl)。 ZHOU Guodin92) of of 200444 1)DepartmentChemistry,CollegeScience，ShanghaiUniversity,Shanghai ofEnvironment ofElectric 200090 2)Department University Power，Shanghai Engineering，Shanghai Measurement 200030 3)ShanghaiRepresentativeOffice，Advanced Technology,Inc．，Shanghai Correspondent：YIN NationalNaturalScienceFoundation and Supportedby ofChina(Nos．5037105220406009) received form2007-10-23 2007-07-_03．inrevised Manuscript ABsTRACT metaltreatment self-