2维光子晶体抗反膜的制作及其特性分析.pdfVIP

第 33卷 第6期 激 光 技 术 Vo1．33，No．6 2009年 12月 LASER TECHN0L0GY December，2009 文章编号：1001—3806(2009)06—0645—03 2维光子晶体抗反膜的制作及其特性分析 赵凤梅，张向苏 ，刘 守，任雪畅 (厦门大学 物理学系，厦门361005) 摘要：为了研究2维亚波长光栅的抗反射特性，分析了2维光子晶体的2维光栅结构，通过全息3束光干涉的方 法，在光刻胶上制作了六角结构的2维全息光子晶体结构。把具有2维全息光子晶体结构的光刻胶作为母版采用全息 模压的方法，将结构复制到薄膜材料上。结果表明，这种抗反膜在红外波段具有增透作用，与理论分析相吻合。 关键词：全息；抗反膜；等效介质理论 ；亚波长光栅 中图分类号：0438．1 文献标识码：A doi：10．3969／j．issn．1001—3806．2009．06．024 Fabricationandcharacteristicanalysisofanti—reflectivefilm of 2-D photoniccrystal ZHAOFeng—mei，ZHANGXiang一$1Z，LIU Shou，REN Xue—chang (DepartmentofPhysics，XiamenUniversity，Xiamen361005，China) Abstract：Inorderto studythe anti—reflection prope~y oftwo—dimension sub—wavelengthgratings．the structureoftwo- dimensiongratingoftwo—dimensionphotoniccrystalwasanalyzedindetail．Thetwo—dimensionhexagonalstructurephotoniecrystal wasfabricatedwiththreecoherentbeamsincidentontotherecordingmedium (photoresist)withholographicrecordingmethod． Takingtherecordingmedium withreliefstructuresasthemasterandusingembossingtechnology，thestructurescanbereplicated topolyvinylchloridfilm．Themeasuredresultshowsthatthetransmittanceofthethinfilm atinfraredwavebandisenhanced，in goodagreementwiththetheoreticalresult． Keywords：holorgaphy；antireflectivefilm ；effectivemedium theory；subwavelengthperiodicrgating 析相吻合。这类抗反射材料具有制作简单、成本低、可 引 言 大批量生产等优点。 亚波长光栅的一个非常重要的用途就是用来做抗 1 理论分析 反射表面¨ 。可广泛应用在光学表面元件处理、太阳 能电池、探测器等。关于它的理论分析 4。、制作和设 亚波长光栅的显著特点是周期小于波长量级，仅 计 已有多篇文献报道。现今仍然存在的问题是制