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07全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜研究
吕学超‘张永彬张厚量任大鹏耶定木张延志
900
表面物理与化学国家重点实验室，四川省绵阳市718信箱35分箱，621
材料的物态方程实验是凝聚态物理研究的重要内容之一。实验用于高能量驱
动的一种靶目前主要是Me-Mo台阶薄膜靶。靶物理设计者对Mo薄膜的密度要
求高，但也认为如果能获取Mo等材料的薄膜具有好的表面粗糙度、厚度一致性
以及高密度，开展这种物态方程实验仍是有意义的。
PLD沉积考察基片温度和脉冲能量对薄膜生长质量的影响。在脉冲能量
℃条件下沉秘的Mo薄膜没有明显的大颗粒状物质附着，表而彤貌较好，见图1。
糙度较好．均小于20nm，满足特定要求，后者生长方式为柱状晶，见图2。PLD
和MS方法沉积的Mo薄膜的厚度一致性均好，尤其是MS沉积的Mo薄膜。图
3所示为采用MS沉积的Mo薄膜的厚度一致性，从白光干涉仪测试的曲线上来
看．Mo薄膜具有高度的厚度一致性(约05mm的扫描线长)，以最大高度和平
均值(图中数据)来计算，其厚度一致性达99％以L。采用XRD全反射方法获
取了MS沉积的Mo薄膜的密度．其范围为理论密度的700／∥80％。
型IPLD沉积Mo薄膜表面形貌 圈2MS饥积Mo断面SEM图
温度400℃)
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