全无机型分子印迹TiO2纳米光催化剂的制备及选择性降解高毒性有机污染物的研究论文.pdfVIP

持久性有机污染轴论坛2009暨第四届持九性有机污染物奎圆学术研讨套论文集 全无机型分子印迹Tio：纳米光催化剂的制备 及选择性降解高毒性有机污染物的研究 沈先涛，苤厦笙，I已擅，唐和清 华中科技大学化学与化工学院，武汉，430074；’联系人，E．mall com lhzllu63@yalloocn) 近年来．利用Ti02半导体光催化氧化技术选择性降解高毒性有机物污染物处理是环境领域研 究的一个热点。迄今为止．提高_Ii鹞光催化反应的选择性主要有以下几种：一是控制降解过程的 反应条件(如溶液的pH值，光强等)达到选择性降解高毒性有机物污染物的目的；二是将小分子 有机物(如p一环糊精、精氨酸、阴离子表面活性剂等)包覆TiO：，提高其对某一种或者一共污染 物的降解选择性：三是合成一种具有敏区结构(吸附区与降解区)的催化剂，并利用此反应体系选 择性去除特定有机污染物。但是，这些催化剂大部分难以制备、选择性不强。为了解决这些问题， 我们课题组将分子印迹技术特异的分子识别能力与光催化降解技术相结合．合成了一种人工抗体型 催化剂，这种新型的光催化剂能够将低浓度的持久性有毒污染物从高浓度的一般有毒污染物中选择 性光催化降解”“。为了解决粉末态分子印迹型纳米n仉光催化剂的难回收缺点．最近我们将渡相 沉积技术与分子印迹技术相结台，制备了一种具有选择性光催化活性的分子印迹TiO，薄膜㈣。虽然 这些分子印迹型光催化剂具有良好的选择性．但是由于采用的是有机高分子改性层，其使用寿命尚 存在不足。本文针对这一不足．制各了一种硅，铝全无机聚台物改性的分子印机型n巩光催化剂， 并详细评价了其光催化性能”J。 1．全无机型分子印迹Tio：纳米光催化剂的制各 1．1硅／铝全无机聚合物改性的分子印机型TjO：光催化剂 选取邻苯二甲酸二乙脂(DEP)为目标分子，全无机型分子印迹T【01纳米光催化剂的制备流 程如图1所示。 090§o ck Tn n■n s…… ^】Ⅷm I一￡ l‘一‘ ：黔彰 1．2光催化剂的吸附与催化性能评价 粉末无机分子印迹型光催化剂的性能评价：实验采用自制的带夹套的反应器作为反应装置，通 1 过光催批降解反应来比较催化剂的光催化性能。反应器容积为250Ⅱ正，催化剂的用量为o grl， 7flIIl的紫外灯管插入石英管中后放入反应器中。 功率为20瓦被长为^一=293 光熙一定时间后，将样品离心．过滤后采用皿Lc对各种物质进行定量分析。 2．光催化剂的催化性能 持久性有机污染物论坛2009暨第四届持久·l生有机污染物全国学术研讨会论文集 mm～， 在DEP与低浓度苯酚的共存体系中，MMC．P25光降解DEP的速率常数七值为O．0093l 而人工抗体型光催化剂ⅡⅥ口．P25光催化降解DEP的Ji}值为0．05302 m．m-1。与前者相比，ⅡⅥ口．P25 对DEP的速率常数增大了5．69倍，而对非目标污染物苯酚的光催化降解速率基本不变，其选择性 因子达到了4．75。增加共存物浓度，Ⅱ订母．P25选择性因子还进一步增加。因此，人工抗体型催化 剂能够选择性地将低浓度、高毒性PAEs快速、完全降解。 3．小结 我们采用简单方法合成了一种全无机型分子印迹纳米粉