溅射气压对AlN薄膜纳米结构和纳米力学性能的影响.pdfVIP

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2017-08-20 发布于湖北
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溅射气压对AlN薄膜纳米结构和纳米力学性能的影响.pdf

Availableonlineatwww．sciencedirect．com 一矿 Transactionsof 糌 ScienceDirect NonferrousM etals SocietyofChina Trans．NonferrousMet．Soc．China24(2014)2845—2855 www ．tnmsc．err Effectsofsputteringpressureonnanostructureand nanomechanicalpropertiesofA1N filmspreparedbyRFreactivesputtering Qiu．pingWEI，Xiong．weiZHANG ，Dan—yingLIU，JieLI，Ke．chaoZHOU。，DouZHANG ，Zhi．mingYU ， 1．SchoolofMetallurgyandEnvironment，CentralSouthUniversity,Changsha410083，China； 2．SchoolofMaterialsScienceandEngineering，CentralSouthUniversiyt,Changsha410083，China； 3．StateKeyLaboratoryofPowderMetallurgy,CentralSouthUniversiyt,Changsha410083，China Received8October2013；accepted3April2014 Abstract：wurtzitealuminum nitride(A1N)filmsweredepositedonsi(1oo)wafersundervarioussputteringpressuresby radio-~equency (RF)reactivemagnetronsputtering．Thefilm propertieswereinvestigatedbyXRD，SEM，AFM，XPSand nanoindentertechniques．Itissuggestedfrom theXRD patternsthathighlyc—axisorientedfilmsgrowpreferentiallyatlow pressures andthegrowthof(1oo)planesarepreferredathigherpressures．TheSEM andAFM imagesbothrevealthatthedepositionrateand thesurfaceroughnessdecreasewhiletheaveragegrainsizeincreaseswithincreasingthesputteringpressure．XPSresultsshow that loweringthesputteringpressureisausefulwaytominimizetheincorporationofoxygenatomsintotheA1N filmsandhenceafilm with closerstoichiometriccompositionisobtained．From themeasurementofnanomechanicalproperti