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序言 随合金以及其它条件的不同,固溶体可以通过不同的序列或不同的途径进行脱溶,并可以在中途停止在不同的进程上。 整个脱溶过程对合金的性能的变化来说是很剧烈的,很敏感的,各个阶段都对应于不同的性能。 本节以Al- 4%Cu合金的脱溶为例来进行讨论。 一、Al-Cu合金的脱溶1.Al-Cu合金的脱溶相 Al- 4% Cu合金从过饱和α相中脱溶的贯序应为:G.P区→ → →θ。 C u在α- Al中的固溶度 在共晶温度(548℃)时,Cu在α-Al中的最大固溶度约为5.65%,随着温度下降,固溶度急剧降低,例如, 500℃时约为4.05%; 400℃时约为1.40%; 300℃时约为0.45%; 达到室温后则不足0.1%。 新相颗粒的溶解度 Thomson-Freundlich方程指出,新相颗粒的半径愈小,对溶剂的溶解度就愈大。 Al-Cu合金平衡相图的一角及过渡相和G.P区在α相中的溶解度曲线 选取合金A1-4%Cu 加热到α区(例如520℃)使Cu完全固溶于α相中,并使其均匀化,然后分别以不同的速度进行冷却,则α相中的固溶Cu将进行不同形式的脱溶。 (1)平衡脱溶,局部脱溶。 很缓慢地接近平衡的冷却,当冷至约500℃时,α便由未饱和态达到饱和态了,温度再略为下降,即进人到过饱和状态,如条件允许,跟着就应该不断地发生θ的生核和成长过程,同时,α的浓度将沿着固溶度线而逐步降低,至常温时,合金将由成分<0.1%Cu的α与成分约为53.25%Cu的θ所组成。 金相组织 一般来说,在这种条件下,只能进行所谓局部脱溶,θ优先沿α的晶界生核和长大,最后形成θ沿晶界分布的网状组织。 平衡组织: α<0.1%Cu+θ53.25%Cu (2)固溶处理 当冷却较快时,α将会由饱和进而达到过饱和,而且冷却越快,α达到的过饱和度就会越大。当冷却很快时,例如在水中激冷,可以将过饱和的α相一直保持到室温,并且在相当长的时间内,不会发生脱溶。如果将合金再放人干冰中,使其保持在一78℃,便几乎可以永远不再发生脱溶了。 4%Cu过饱和α相、过渡相、平衡相 4%Cu过饱和固溶体α相的起始态的晶格常数a=b=c=0.403nm; 终了态平衡相θ(Cu-Al2 )是正方晶系,a=b=0.606nm,c=0.487nm。 GP区、 、 代表脱溶的过渡相。随脱溶条件或合金成分的不同,α既可直接析出θ,也可以经过一个、两个或三个过渡阶段,再转化为θ。同时,脱溶过程也可停留在任何过渡阶段。 2. G.P区的形成 在AI-Cu合金中,G.P区代表Cu原子的偏聚区,为纪念Gunier及Preston的工作而得名。但现在这个词已成通用名词了,可用来泛指任何固溶体中的溶质原子偏聚区。 G.P区大多在过饱和度较大或过冷度较大的条件下形成,例如,将Al-Cu合金由α区固溶后,在室温放置。或适当加热并保温,经过一定时间后,即可形成。 G.P区是超显微结构 G.P区属于超显微领域,用光学显微镜无法观察。但是由于垂直G.P区方向上共格错排畸变,引起电子衍射强度的局部变化,故在电镜下有衬度变化,其形态如图所示。 G.P 区的形态 G.P 区的厚度随着时间和温度的变化很小。其直径随着时间的延长长大也是很小的,但是却随着温度的提高而明显增大,从室温到150℃,直径由5nm左右增大到50nm左右。 G.P 区是和母相完全共格的富Cu区,它呈盘状,盘面垂直于基体低弹性模量方向,也即 方向。如图所示。这些盘状产物大约2个原子层厚,直径10nm,相互之间的距离约10nm. G.P区的畸变 Cu原子半径为0.128nm,Al原子半径为0.14319nm,显然,Cu原子半径比Al原子半径小,二者相差约10%。因此,可见图中Cu原子层周围晶格产生收缩畸变。假如,Cu原子在 上偏聚,则在G.P区的上方、下方,紧相邻的第一排α-Al的原子面向G.P区方向收缩。造成弹性张应力。在G.P区片的周边则形成一个环状的弹性压应力区。 溶质原子与空位的复合体 试验表明,在GP区周界还吸附着相当数量的空位,即过饱和空位,受Cu原子的吸引而形成的一种溶质原子与空位的复合体。 这些空位是由于淬火而冻结下来的超额空位。 空位在脱溶过程中有促进作用。 GP区的分布,数量 GP区大多是比较均匀地弥散分布在α基体中,平均来说,在单位体积的α中,可形成高达1018个GP区,即其密度可达到1018/厘米3 。当在不同温度进行人工时效时,GP区的尺寸和密度都会随之而发生变化。一般来说,时效温度升高,GP区的尺寸会增大些,而其密度将减少。 空位密度的影响 GP区的大小和密度受淬
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