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同位素Pb靶的研制 樊启文杜英辉张榕许国基 (中国原子能科学研究院核物理研究所北京 102413) 随着核物理基础研究的深入开展和高稳定高能量加速器以及高分辨率探测系统的 发展，对浓缩同位素核靶的需要越来越重要；而浓缩同位素的价格比天然材料昂贵得多， 有些可相差到几千万倍，因而在保证实验所需均匀性的前提下，尽量提高材料的利用率 成为浓缩同位素靶制作的关键技术，这就要根据不同靶的参数和材料采用相应的制备方 法。 介绍了几种高效率制备同位素Pb靶的工艺方法，包括大面积的C尸明Pb／C弧形靶、 几何参数的选择、不均匀性及厚度的计算与测量，并简要介绍了208Pb／C点靶和 204,206,207,208Pb自支撑靶的制备方法——聚焦重离子溅射和轧制。 Pb同位素由于其结构特点(幻数核)，是利用“冷熔合”反应合成超重核的最常用的 靶材料之一。随着合成超重核原子序数Z的增加其反应截面呈指数下降，为了提高反应 产额需要有较大的束流强度，流强增大，束流与靶作用时放出的热量随之增加，而208Pb 靶的熔点较低(327℃)，很容易被放出的热量熔化，因而在实验中常采用转靶的形式， 并且将208Pb靶夹在两层薄C膜之间，以便提高散热效率和延长208Pb靶的使用寿命。正 靶需要被制备，208Pb靶的有效面积为10．56cm2，不均匀性(标准变差)小于10％。 点靶能获得更好的能量分辨率，点靶带来的能量分散小，能量损失小和角度分散小， 从而得出更精确的角度分布曲线，进而得出更理想激发函数，谱因子和ANC(波函数 系数)等物理中非常重要的物理量。正是由于以上点靶的众多优点，原子能院的核物理 们采用聚焦重离子溅射法制备这种靶，该方法的优点是材料利用率高，适合制备少量浓 对于自支撑同位素靶，原则上也可以用制备天然材料自支撑靶的方法来制备，但是 考虑到同位素材料非常昂贵，用溅射和蒸发的方法来制备同位素自支撑靶的费用很高而 且风险很大。所以，一般我们只用滚轧法来制各自支撑的同位素靶。滚轧是制各自支撑 同位素金属靶十分有用的方法，其优点是节省同位素、靶的轧制过程中引入的杂质可忽 略、靶的机械性能好。Pb属于软金属，轧制时容易与不锈钢夹片粘连，在轧制同位素 204206207，208Pb时，应先用不锈钢夹片将其轧薄，当出现粘连时就改用聚四氟乙烯夹片， 直到膜厚达预定值。轧制天然Pb靶的最薄厚度为5．2mg／em2。根据实验用户提出的要 求，轧制了同位素204’206，207208Pb靶。