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天线耦合式MPCVD制备大面积金刚石薄膜的研究
任英冉均国 芍立郑昌琼
(四川联合大学无机材料系,成都,610065)
摘要本文研究了天线耦夸式MPCVD制备金刚
2实验方法
石薄膜的特点,考察了气体压力、甲烷浓度、输出功率
厦基体位置对沉积面积及沉积薄膜均匀性的影响,并 2.1实验装置
成功地制备出直径为60mm~80turn的金刚石薄膜,
比常用的表面波耦合MPCVD设备常0备的薄膜面积 在分析各种装置优缺点的基础上,充分利用原有
扩大7一倍。 条件t我们在原有的微波等离子体化学气相沉积设各
上,增加天线耦合装置,将微波传播方向转向至较大
关键词金剐石薄膜天线耦合式MPCVD法高
速大面积 的反应腔体,使微波得以在较大的波导中传播,从而
实现大面积沉积金刚石薄膜。
1引言 本装置主要由四大部分组成:微波源,进气系统,
沉积系统,真空系统。如图1所示:
金刚石薄膜薄膜作为一种性能优良的功能材料,
它的发展越来越受到人们的关注。要使金剐石薄膜在
实际中得到广泛应用必须扩大薄膜的沉积面积,如窗
口材料本身需要大面积的金刚石薄膜,再如金刚石薄
膜在微电子装置上应用的巨大的潜在优势也要求大
面积的金刚石薄膜;另外,金刚石的高硬度使其在工
具市场上的应用前景极佳,都需要太面积批量生产。
图1实验装置图
目前实现大规模工业化生产的唯一制约因素是成本,
1:微波源;2:矩形波导{3:天线耦合嚣}4:圆形波
降低成本的唯一途径是实现大面积、高速率地沉积高 导;5:石英钟罩;6:等离子体球;7:基体
antenna
1 Schematic of coupled
质量的金刚石膜。在价格上,金刚石薄膜也具在一定 Fig diagram
MPCVDreactor
的优势。比如散热片,对天然金刚石或高温高压合成
1:wflve
source;2:rectgularwave—guide;3;anten—
的金刚石,随尺寸增加,价格增加很快,而CVD金刚 na;4:eneular dome;6;plas—
wave—guide;5{quartz
石单位体积价格趋于不变,并在一定范围内随体积增 maball÷7:substrate
加而价格降低“j。因此,目前各国都在研究扩大沉积 2.2实验
面积的问题。微波法由于过程稳定,结果重现性好而
微波源输出频率为2.45GHz的微波,工作的输
受到重视。传统的表面波耦合石英管反应器微波,为
人功率为600W1300W,基体为si片.si基体经过
了避免微波泄漏,不能在波导上开大孔,这就限制了
金刚石粉研磨并经超声波处理。反应压力为15乇~
反应室的
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