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用AFM研究PS／PMMA共混物薄膜的相分离过程 李学 韩艳春+ 安立佳‘ 中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室，长春130022 高分子混合物薄膜的相分离动力学与表面形态的形成是一个非常复杂而诱人的科学问 题．近年来受到人们的重视而成为近期高分子科学研究的热点之-[1．51。正确认识表面微区 形成的动力学过程对如何利用相分离调控薄膜的形态结构，获得特殊性能的薄膜具有十分重 要的意义。本工作利用含热台的原子力显微镜(AFM)观察了PS／PMMA(50／50)共混物 薄膜的表面形态结构的变化过程，井考察了共混物薄膜厚度的影响． Mw=102600，1V1。=48300。共混物薄膜采用旋涂法制各，基底为单晶硅片，薄膜厚度采用椭圆 扁振仪测量。 图1和图2分别为59rim和33nm的共混物薄膜在156℃不同时间的原子力显徽镜(AFM) 的图象。 0min 10rain 40min min 294 654rain 2214rain 图1．59nm厚的P泖h似A共混物薄膜相分离过程 0min 20min rain rain 185 385 7451rain 2365rain 圈2．33nm厚的PS／PMMA共混物薄膜相分离过程 ． 由于PMMA的表面自由能大于PS的表面自由能，PMMA将优先在基底表面聚集．通 过溶剂刻蚀等方法确定旋涂后(om．吡)薄膜誊面的岛状徽区为PMM4k．t从j冉FM图象看出，在 初始阶段，PMMA富相微区(岛相)的相对高度逐渐变小．说明PMMA向基底方向迁移， +中国科学院。百人计划”，吉林省杰出青年科学基金． ‘通讯联系人·该研究工作得到了田家杰出青年科学基金，田家自然科学基金f2∞74037， 的大力资助． 且薄膜表面不断有小孔洞产生，孔洞的尺寸随时间的延长逐渐变大；对59nm厚的薄膜，当 面形态随时间的变化比较缓慢。对33am厚的薄膜在385rain时，表层的PS薄膜开始塌陷， 之后主要发生去润湿行为：退火时间745rain时已形成Ps滴状粒子均匀分布在PMMA薄膜 的表面，继续延长退火时间，Ps滴状粒子尺寸增加。 PMMA向基底迁移，形成PMMA富相层，表层为Ps富相层。(2)旋涂法制备的高分子共 混物薄膜处于非热力学平衡状态，在退火过程中其表面形态发生变化，并伴随着去润湿行为， 薄膜的最终表面形态结构与薄膜厚度、退火时间等因素有关。 参考文献： ． Natore 1999，400，49． 1997，30，4995． 4．Karim，A．；Slawecki，tM．；Kume f玎IONPRoCESSOFPS／PMMA aNTHEPHASESEP：AR STUDY TH口[N MTHA：r10Il讧IC BLENDFⅡjM HAN AN Xue Yaachun LI Lijia State and Institute Chemistry ofApplied Laboratory PhysicsChemistry,Changehun K．ey ofPolymer 130022