用AES研究铝薄膜和基体金属铀之间的界面反应.pdfVIP

用AES研究铝薄膜和基体金属铀之间的界面反应.pdf

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第 卷增刊 原 子 能 科 学 技 术 ! ! #$%!’( % ! ! ! ! ! ! )) 年 月 *++, - ./$0123456 ;524$%$ =(% *++, 78 78 8 用!#研究铝薄膜与基体金属铀 之间的界面反应 周 韦!刘柯钊!杨江荣!肖 红!蒋春丽!陆 雷 ! ! ! 中国工程物理研究院!四川 绵阳 # *?+- ! 摘要!在俄歇电子能谱 #仪超高真空分析室中利用氩离子溅射沉积方法将 沉积在 基体上对 .3’ .% C 不同 沉积量的铀表面实时采集 和低能电子损失谱 #!以研究沉积 原子与 表面原子 .% .3’ 33D’ .% C 间的相互作用以及 膜的生长过程将实验样品进行退火处理后进行深度剖析研究结果表明’ .% .% 沉积在 基体上是以岛状方式生长的$室温下!沉积 原子与 表面原子间存在界面作用!两者在界 C .% C 面处相互扩散形成了合金相退火促使界面扩散速率增大!界面结合力增强!并有可能形成化合物 C.% ! 关键词!铀$铝薄膜$界面$俄歇电子能谱 中图分类号! 文献标识码! 文章编号! # E,-F* . ?+++@!?*++,’+@+?,?@+, ! ! ! ! ! ! !$’()*’+,# )*’+.)+ #*$0 +,1,*’2)*3+, % - -/ / 4*5,!($63,$6 783,92’.2,0:’2,3$6 #$;.*’2* / ! ! ! ! ! GHEC I51 DJC K5@L9$ M.NO =194 @6$4 PJ.E H$4 =J.NO Q(4@%1 DC D51 7 7 7 ! ! # #$%’()*+ - /% $%**1$% 2# 3$(3 4$% % *?+- #$%

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