用TEM研究均聚物聚集态结构一种好方法.pdfVIP

云南化工 第二届大西南分析化学学术会议论文专辑 用TEM研究均聚物 聚集态结构的一种好方法 张伯兰肖仲斌 中国科学院成都有机化学研究所成都6l00411 吕云伟黄锐 (四JI5联合大学塑料工程系成都6100651 擒要本文着重介绍了用作者改进的臆断面复型法制备尼龙均聚物的TE／vl样品，以研究尼龙的聚集态结构．特别是片 晶结构． 。 关键调TEM均聚物聚集态结构 高分子材料或制品的加工成型条件是其聚 度则完全由试样表面的几何形貌决定。因此，用 集态结构的决定圆索，而后者又直接和本体性 扫描电镜观察厚度仅为数个～数十I]ITI的高分 质相关联。加工成型条件，如熔融和模压温度压 子材料片晶结构几乎是不可能的。作者认为，用 力等．的变化将造成试样聚集态结构的改变，从 扫描电镜看到的半结晶高分子材料臆断面形态 而导致其性能的变化。因此，为了探讨高分子材 由断裂所致，虽与试样的内部结构相关．但不是 料加工成型条件一聚集态结构～性能之问的直 真正的结构条纹。正如一堵倒塌的砖墙，远处香 接关系，在制备电子显微镜样品时，不能将试样 到的断墙形态，与断裂时的内外应力有关；近处 溶解或熔融，只能用冷冻脆断或超薄切片等机 看到的锯齿状断墙边沿，才反映了砖的形状和 械方法。超薄切片是制备TEM样品的好方法，厚度。本文用改进的脆断面复型法制备了不同 但对于均聚物，通过染色显露其片晶 压力下成型的尼龙～6电镜样品，并在透射电 (Lamellar)结构的难度很大；冷冻脆断是观察子显微镜下观察，获得了较好的结果。本文将介 高分子材料内部聚集态结构的常用方法，多用 绍这一方法和所得结果。 于扫描电镜[I]。目前，扫描电镜的最高分辨率虽 已达O．8nm(FEG，二次电子象)，但一般操作者一实验部分 所能调出的仅为jo一50nm[21。而当前国内许多l尼龙一6样品的制备 单位使用的80年代初的扫描电镜，达此分辨率 将尼龙一6原料放在特制的模具中．模具 也十分困难。另外，扫描电镜=次电子像的衬 置于上海宝山生产的QYL～32油压千斤顶 度主要来自试样表面的几何形貌，对于完全由 内，升置至所需温度，待尼龙原料颗粒全部熔 轻元索C、H、O、N等组成的高分子材料，像衬融，加压至所需压力，保温保压一定时间后，切 167 ．墨壹丝苎 一 苎三墨墨堡垒坌堑些芏兰查盒墼丝皇主登 断加热电源，恒压下自然冷却至室温。 ～8，由图可见两个清晰的球品，捧状的成核剂 2透射电镜样品的制备 是球一C-，片晶围绕球心排列，或辐射状由球心向 将各种尼龙一6样品分别放在液氮中冷冻外生长。b为尼龙一1l在250。C、0．6GPa、保温 约一分钟，用放置在液氯中的镊子迅速取出，立保压10分钟条件下制得的样品。照片上片晶清 即用锤子敲断，即得尼龙一6的脆断面。待脆断晰可见。由此说明，作者所用的脆断面复型方法 的尼龙～6样品恢复常温，表面的冷凝水挥发是能够很好地揭示高分子材料内部聚集态结构 之后，进行复型。复型方法与通常所用的二级复的有效方法。 型法相似，铂投影，投影角为30。。值得指出的 据报导c3：，随着加工成型的压力的增大，高 有二点：其一，脆断面不规整，凹凸较大，为把细分子材料片晶厚度增加。图2是在260。C、不同 微结构复制下来，采用1．5％一2％(重量百分成型压力下所制得的尼龙一6样品的透射电镜 比)酯酸纤维索丙酮溶液，而不是纤维素膜，并照片。其中，图乳样品是在常压下成型，图中显 使丙酮尽量缓慢挥发f其二，由于脆断面凹凸不示一出束状物组成的不完整球晶，柬状物由很 平，若像通常那样，将喷有铂和碳的醋酸纤维素薄的片晶构成。图2b样品成型压力为0．2GPa， 膜直接放在丙酮上，碳膜极易碎裂，无法捞取。 图中呈现许多环状排列的片晶，这些片晶的厚 作者将饱吸丙酮的脱脂棉置于一容器中，棉花‘度明显大于图a中的片晶。图3样品为加入成 上盖一滤纸，后者被丙酮