应用表面扫描仪探究硅抛光片表面质量.pdfVIP

—rfU≥6弘．IZO·i。 应用表面扫描仪研究硅抛光片表面质量 硅垮 梅硝 卢立延孙燕 (北京有色金属研究总院，北京lo008s) 1引育 载平台可机械步进入激光扫描区，利用激光 随着集成电路向大规模和超大规模方向 束对抛光片表面扫描。如果抛光片表面完好 发展，微电子技术从微米技术进入亚徽米技 无缺陷，光束不会发生散射且沿同一角度反 术，由于元件结构可以小至亚徽米尺度，对 射，即不会有能量损失。当光束遇到颗粒或 作为衬底的半导体硅抛光片表面质量提出了 缺陷时，将发生散射和反射效应，使入射光 更高要求。表面的颗粒、微缺陷或表面机械 的强度减弱。将减弱的散射和反射光强分别 攒伤的存在都会对器件的制造工艺和器件产 收集到两个光电倍增管(蹦T)中，如图1， 品质量造成极为有害的影响。因此如何更好 经过一系列信号处理后，印可在计算机屏幕 地检测硅片表面鬏粒利表面缺陷对监控抛光 上反映该缺陷的大小形状和在硅片上的位 工艺过程和保证产品质量都将起蓟非常重要 置。 ． 作用。 传统’的表面检测方法仍然是以目检为 主，辅助以显微分析观察。目检方法有其自 身的优越性，是其他检测方法不能比拟的。 伪如可直接翔断各种缺陷类塑：分析形成缺 陷的原因。及时反馈信息等。但且检也有很 大的赢限性，梭测者的技术、经验、工作疲 图1激光扫描仪工作示意图 劳状态等诸多因素都会影响对表面质量的评 价【I】。并且人服所能检溆劐的颗粒在微米 收集散射光信号的PMT称为暗通道 级，不舷满足器件对材料颗粒的要求。运用 PMT(DCPMT)，它反映了表面颗粒状况及 显徽镜分析显然扩大了人的视野，但检测费 细小的划痕等缺陷，而收集反射信号的PMT 时，不能作为批量生产的检测工具。 称为亮通道PMT．(LC蹦T)。7它将诸如桔皮、 本文所要讨论的是应用表面检测设备检 波纹等缺陷反映在图像及量值化的Ij出 测硅片表面颗粒和各种缺陷并自动进行分 cb朋llel数值上．(简称L值)【2’3】。 、类．对抛光租清洗后硅片表面状态作一初步 众所周知，在通常的目检标准规程中。 分析和研究。 使用的光源有两种．即以一窄束强光观察充 2实验 当光散射点的缺陷和大面积漫射光观察较大 本实验采用激光表面扫描仪检测抛光片 的缺陷，如桔皮、条纹、环状突起、凹坑、 。 、 表面。 重划伤等。结合亮通道检测反映的正是后一 硅片被一机械手放人承载平台上，此承 种缺陷。但为了检测可靠和准确，需要操作 ·112· 者在使用仪器前须预先结合自己的经验，借 助显微镜等手段，给出设置及判定标准。经 过反复的实验，寻找到合适设置及判定标准 后。此仪器将可使酋检这一完全依赖人工的 方法基本土被替代j并将大大提高检游分辨