1合成中的物料及三氯氢硅的性质.docVIP

多晶硅，灰色金属光泽。密度2.32~2.34。熔点1410。沸点2355。溶于氢氟酸和硝酸的混酸中，不溶于水、硝酸和盐酸。硬度介于锗和石英之间，室温下质脆，切割时易碎裂。加热至800以上即有延性，1300时显出明显变形。常温下不活泼，高温下与氧、氮、硫等反应。高温熔融状态下，具有较大的化学活泼性，能与几乎任何材料作用。具有半导体性质，是极为重要的优良半导体材料，但微量的杂质即可大大影响其导电性。电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料。由干燥硅粉与干燥氯化氢气体在一定条件下氯化，再经冷凝、精馏、还原而得。 　　多晶硅可作拉制单晶硅的原料，多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面。例如，在力学性质、光学性质和热学性质的各向异性方面，远不如单晶硅明显；在电学性质方面，多晶硅晶体的导电性也远不如单晶硅显著，甚至于几乎没有导电性。在化学活性方面，两者的差异极小。多晶硅和单晶硅可从外观上加以区别，但真正的鉴别须通过分析测定晶体的晶面方向、导电类型和电阻率等。 　　多晶硅是生产单晶硅的直接原料，是当代人工智能、自动控制、信息处理、光电转换等半导体器件的电子信息基础材料。被称为“微电子大厦的基石”。合成中的物料及三氯氢硅的性质一、工业硅（粗硅） 工业硅的制备方法很多，通常是用还原剂将SiO2还原成单质硅，还原剂有碳、镁、铝等。用镁或铝还原的SiO2如果还原剂的纯度较高的话，那么所得的硅可达3～4个“9”。在一般的工业生产中常常采用在电炉中用焦炭还原SiO2来制取单质硅，即把碳电极插入焦炭（或木炭）和石英组成的炉料中，温度为1600℃～1800℃还原出硅和CO，反应如下： SiO2+2C→(1600℃～1800℃)Si+CO 在产品中存在杂质有Fe、C、B、P等，其中以铁含量为最多，因此又称工业硅为硅铁。 用此法还原制得的硅铁，纯度约为95～99%可以直接用来氯化制备卤化物，但是为了提高生产纯度需要进一步提纯用酸浸法。 当硅凝固时，多数杂质（Fe、Al、C、B、P、Cu等）离析在晶粒的周围，这些杂质呈硅化物或硅酸盐状态，一般都可以用酸溶（除少数杂质如SiC、Fe2O3不溶外）而硅则不溶于酸中。 酸浸法所用的酸有HCl、HNO3、FH、王水以及不同组合的混合酸，在酸中加入三价铁（氧化剂）将加速杂质的溶液解，升高温度和采用小粒硅粉，对提纯更是有利。（有时会发爆鸣声，这是由于SiH4存在的原因）用此法可将硅的纯度提2～4个“9”。 我厂使用的工业硅（硅铁）是抚顺301厂二级块状硅，其纯度为98.4%,Fe0.6%,Al0.5%,Ca0.5%。将硅铁破碎球磨至60～120目的硅粉是灰色固体，以待合成时使用。 二、氯气 分子量为71，呈黄绿色气体，常温时在将近6 个大气压下变为液体，液体比重1.57g/l，标准状态下，1升氯气重3.21克，氯气具有刺激性，窒息性，在使用氯气时必须采取有效防护措施。 氯气是由电解食盐水溶液而制得的 2NaCl+2H2O→2NaOH+2H++2Cl- 纯度可达95%以上。 氯气在-34.5 ℃也可变成液体，含量为99.5%，氯气是一种化学性质很活泼的元素，它能跟氢气、金属、非金属直接化合，也能跟许多化合物发生反应（除碳、氧外）。 2Na+Cl2→(黄色火焰)2NaCl 2Sb+3Cl2→(放出火花)2SbCl3 Cl2+Cu→(棕黄色)CuCl2 三、三氯氢硅物理化学性质 常温下，纯净的SiHCl3,是无色、透明、挥发性、可燃的液体，有较SiCl4更强的刺鼻气味，其化学特性如下： 易水解、潮解，在空气中强烈发烟。 SiHCl3+1/2O2+H2O→SiO2+3HCl↑ 易挥发、气化、沸点较低。 易制备、易还原。 易着火、易爆炸、发火点为28℃，着火温度为220℃，燃 烧时产生氯化氢和氯气: SiHCl3+O2→SiO2+HCl↑+Cl2↑ 对金属极稳定，甚至对金属钠也不起反应。 其蒸汽具有弱毒性，与无水醋酸及二氮乙烯毒性程度相同。 在研究原料特性时，应尽量利用为生产所用，对其有害之特性也应予以充分重视，搞好安全生产。三氯氢硅还原制备超纯硅的方法，在生产中之所以被广泛的应用和迅速发展，就是由于三氯氢硅的特性在生产中大放光彩，如它容易制得，解决了原料问题，容易还原成元素，沉积速度快，解决了产量中的问题；它的沸点低，化学结构的弱极性，使得容易提纯，产品质量高；利用它对金属的稳定特性，在确定精馏塔，贮料槽，还原炉等设备材料时，就可采用不锈钢作为材质，如此等等。而另一方面，由于三氯氢硅有较大爆炸危险，因此在具体操作时应认真细心，思想上也应充分重视，做到安全生产。 在操作过程中，根据三氯氢硅的性质，应保持设备的干燥性和管道的密封性，如果发现微量漏气者而不知是什么地方时，可用浸有氨水