氮化硅薄膜的性能及其应用.pdfVIP

3．3 0：复合膜的显微形貌及孔径分布 Zr02／S 图5凉膜后的A1203陶瓷基板的SEM照片 可以发现其孔径基本分布在0．1～2．09in范围内。 相对较宽。 可能进一步使多孔A1203陶瓷基板中小于1．4rim孔洞的孔径分布峰尖锐化。 布图中没有反映出微米级孔洞的情况，下一步的工作将对其微米级的孔径分布、化学稳定性 及其对饮用水的滤除效果进行表征与研究。 d00E‘0^p…p……LOT dv’…50■…p口～…口T 图6AI：O，陶瓷膜的孔径分布 图7涂覆了Zr02／SiOz膜的A120】基板的孔径分布 4．结论 的引入抑制了Zr02由四方相向单斜相的晶相转变，无疑将提高膜的结构完整性。所得膜的 微米级孔径分布、化学稳定陛及对饮用水的滤除效果有待进一步研究。 参考文献 P Larbot，JFabre，CGuizard，LCot，J．Am．Ceram．Soc．，72[2】(1989)257_61 【1】A E Ceramics R JJZelinski，GWnek，BetterThrough Uhlmatm，B [21D 【3】吴洁华，于云等，华东理-[大学学报，23(3)1997：349 Tomozawa,J．Am．Ceram．Soc．，69[2】(1986)99-102 [4]MNogami，M 氮化硅薄膜的性能及应用+ 孟祥森杨辉汤荣昌马青松葛曼珍 浙江大学无机非金属材料研究所杭州310027 浙江大学硅材料科学国家重点实验室 摘要：氙化硅薄膜作为一种重要的薄膜材料，具有优秀的光电性能、钝化性能和机$蛀，}生能， 在微电子、光电乖材料表面踟陆领域都有广泛的应用前景．本文着重评述了氮化硅薄膜的主 要性能和应用． 关键词：氮化硅，薄膜，性能，应用 1．前言 氮化硅薄膜是一种重要的精细陶瓷薄膜材料，以其优照的光电性能、很高的化学稳定性 和很强的抗杂质扩散和水汽渗透能力已经在微电子和光电领域获得广泛应用。另外，氮化硅 薄膜还具有超高硬度，很好的高温稳定性和抗高温氧化性，因此它在材料表面改性和热工程 等技术领域也有广阔的应用前景。 2．氮化硅薄膜的性能 2．1钝化性能 报导【1】，N矿在氮化硅薄膜中的扩散系数非常小而溶解度大。在400(2和电场作用下，1分钟 界面上出现了Nr堆积。因此，氮化硅薄膜对Na+扩散起到了有效的屏障作用，用它作为钝化 膜可以大大减轻Na+对器件的不良影响。 氮化硅薄膜的抗潮能力受致密度的影响。对于致密光滑的薄膜，由于其针孔密度小，能 有效阻挡水汽的侵入。若膜层疏松多孔，则H：O很容易渗入膜中，对膜进行氧化。比较相同 条件下制备的氧化硅、氮化硅和氧氮化硅薄膜f2J，25C的水对氮化硅薄膜不产生腐蚀作用， 在85C的水中，氮化硅薄膜的腐蚀速率小于5nm／h，比氧化硅小。这说明水汽在氮化硅薄膜 中的渗透系数最小。所以，可用氮化硅薄膜削弱外层水汽对器件性能的不良影响。 2．2稳定性 氮化硅薄膜的热稳定性与其化学键状态直接相关。由于薄膜中键合的氢不大稳定，所以 ’注：国家自然基浙江省自然基金596109资助项目 727 ] 当对含有较多N．H、Si-H的薄膜进行高温处理时，N．H或Si．H断裂释放出氢，或者以N． 量低时，薄膜的熟稳定性很高。有报导14】，低氢氮化硅薄膜在900C高温热处理时表现出很好 的热稳定性。氮化硅薄膜还有很好的温度稳定性，约在1800。C以上才会分解【51。 氮化硅薄膜具有相当好的化学稳定性。除氢氟酸外，其它酸和碱几乎对氮化硅不发生作 用。氮化硅薄膜的耐腐蚀性与工艺条件密切相关，关键因素是薄膜中的氢含量(61。原因在于 与酸作用时，氢充当了表面反应位的角色，因此薄膜中氢含量提高时，薄膜的腐蚀速率加快。 氮化硅薄膜具有优良