金刚石膜机械和机械-化学抛光.pdfVIP

维普资讯 金刚石膜机械和机械．化学抛光 510090 广东工业大学机 电工程学院 陈春林 王成勇 陈 君 摘要 化学气相沉积(CVD)法生成的金刚石膜具有天然金刚石的基本性质，在机械、电子、光学等领域都有 着广泛的应用。但CVD金刚石多晶膜表面凹凸不平，表面粗糙度较大，限制了它的广泛应用，因此，金刚石膜的 抛光成为必不可少的工艺步骤。但是，金刚石膜的硬度非常高，且厚度薄，整体强度低，易破裂或剥落，抛光难度 很大。国内外学者通过实验和研究，提出了多种金刚石膜抛光的理论和方法。本文详细论述了几种典型的机械、 化学、机械 一化学抛光方法的机理、工艺和特点。 关毽词 CVD金刚石膜 抛光 中国图书分类号 TG5 ABSTRACT Peoplemakesyntheticdiamondfilmusingchemicalvapordeposition(CVD)．ButpolycrystallineCVDdi． amondfilmshaveit'OU andnon-llniforlRithicknesswhichcarladverselyaffecttheirapplicatino ．Polishingr皿 beusedtorenle． dyhtesedmsi~aeks．Inrecentyears，trl~ "pasihing teekniqueshavebeenreported，eachhaving technologyadvantagesnad disadvantages．Thispaperreviewshtemechanical-chemicalpoaching ofCVD diamondfilms．nI htemechnaical lapping，hte final Idaoeiscontrolledbyhtesizeofhteabrasivepowderused．nI htechemical polishi职 ，CVD diwnondfilmsisetchedby moltenrareearthn~etalsSUehaslnathanumnadcerium．Thetemperatureofpolish~ palte，itsmaterialnadhteatraosphere duringhtepolishinga veryimportanttothefinalsurfacebyhtermo-chemiealpo lishing Chemicallyassistedmechanicalpol- ishing(CAMP)siaocmbinationtechniquehtatliSLe3mechanicalpon~ng incelljunctionwihtchemicalstoenhancehtel'~qlove rate．Atlast，Wepmposeanewpolish~ technologyforpolishingCVDdiamondfdm． KEYⅥ，0RDs CVDDinaaondfilms Polishing 1 前言 ’ 火花抛光 等。这些方法基本上是利用微切削、金刚 1962年，Eversole用低压化学气相法(CVD)成功地 石表面的石墨化、碳原子的扩散与蒸发和化学反应等 人工合成了金刚石 。八十年代又出现了热丝 CVD 来实现 CVD金刚石膜的抛光。 法、微波等离子体CVD法、直流等离子体喷射 CVD法 本文着重对机械抛光和机械一化学抛光等最为常 以及燃烧火焰法等金刚石膜制备方法。用 CVD法合 见的金剐石膜抛光方法的机理、工艺、特点进行详细探 成金刚石膜，如果没有很好的控制手段，金刚石膜在沉 讨 。 积过程 中，会因为晶体沿着某些晶面的择优生长导致 2 机械化学抛光方法 厚度不均，颗粒大小不等，表面粗糙度过大 (一般在几 2．1 机械抛光 微米到几十微米)，在许多情况下不经抛光很难直接应 金刚石的机械抛光与金刚石膜的机械抛光是有一 用。由于金刚石膜的硬度高，化学性能稳定，且厚度较 些共 同之处的。