金刚石膜抛光装置的有限元分析.pdfVIP

2009年 8月 金刚石与磨料磨具工程 Aug．2009 第4期 总第 172期 Diamond＆AbrasivesEngineering No．4 Seria1．172 文章编号：1006—852X(2009)04—00010—05 金刚石膜抛光装置的有限元分析 黄树涛 周 丽 许立福 (沈阳理工大学 机械工程学院，沈阳110168) 摘 要 本文建立了金刚石膜抛光装置的实体模型，采用接触分析法计算抛光装置高速旋转时，抛光盘 厚度和转速对抛光装置的强度、刚度的影响规律。结果表 明：随着金刚石膜抛光盘厚度的增加，同一转 速下，vonMises等效应力与径向位移的变化很小，而轴向位移在抛光盘厚度较小时呈直线上升趋势，当 抛光盘厚度大于等于8mm时，轴向位移的变化逐渐趋于平稳。同时，对于同一厚度的金刚石膜抛光装 置，随着转速的提高，vonMises等效应力和径向位移呈现相似的上升趋势，轴向位移却先上升后下降。 文中得出的结论为金刚石膜超高速抛光机的设计和实际操作，提供了可靠的理论依据。 关键词 金刚石膜；抛光装置；有限元法 中图分类号 TQ164 文献标识码 A Finiteelementsimulation ofthepolishingdeviceofdiamondfilms HuangShutao ZhouLi XuLifu (SchoolofMechanicalEngineering，ShenyangLigongUniversity，Shenyang110168，China) Abstract Inthispaper，asolidassemblymodelofthepolishingdeviceofdiamondfilm wasbuilt，theeffects ofthethicknessandrotatingspeedofpolishingplateonthestrengthandstiffnessofpolishingdevicewerecal— culatedbyusingcontactanalysismethodwhenhtepolishingdevicerotatesathighspeed．Theresultsindicate that：atthesamerotatingspeed，vonMisesequivalentstressandtheradialdisplacementchangeverylittlewit}l theincreaseofpolishingplatethickness；however，theaxial displacementshowsalinearascendingtendency whenthethicknessofpolishingplateisrelativelysmall，andthechangeofxa ialdisplacementtendedtobesta- blegraduallywhenthethicknessofpolishingplateis>I8mm．Atthesametime，forthepolishingplateofdia— mondfilm withthesamethickness，vonMisesequivalentstressandtheradial displamentshow aascending tendencywiththeincreaseofrotatingspeed，buttheaxial displacementfirstlyincreasesandthendecreases．A theoreticalguidancetothedesignandoperationofthesuper—hishspeedpolishingdeviceofdiamondfilmswas provided． Keywords diamondfilms；polis