磁控溅射镍膜催化生长石墨烯及迁移表征.pdfVIP

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材料导报

·94 · 材料导报 2010年 5月第 24卷专辑 15 磁控溅射镍膜催化生长石墨烯及迁移表征 牛 亮 。,张国玉 ,刘立伟 (1 长春理工大学光电工程学院,长春 130022;2 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州 215125) 摘要 在Si/SiO 衬底上将磁控溅射镍膜作为催化剂,利用化学气相沉积制备了大面积连续的石墨烯薄 膜,得到的石墨烯为 1~15层。将石墨烯薄膜迁移到玻璃衬底和Si/SiO 衬底上,测量了薄膜的可见光透过率和 薄膜电阻,并讨论了石墨烯作为透明导电电极在光电器件上的应用。 , 关键词 磁控溅射 石墨烯 化学气相沉积 镍催化剂 。 CatalyticGrowth0nNickelFilmsbyM agnetronSputtering,Transferringand .‘ , Characterizati0n0fGraphene : 、’ 一 NIU Liang一,ZHANG Guoyu1,LIU Liwei · (1 DepartmentofOpto-ElectronicEngineering,ChangchunUniversityofScienceandTechnology,Changehun130022; 2 SuzhouInstituteofNano-techandNano—bionics,ChineseAcademyofSciences,Suzhou215125) Abstract OntheSi/SiOzsubstrate,largeareaandcontinuousgraphenefilmsarepreparedbychemicalvapor depositionmethod,usingnickelfilm bymagnetronsputteringascatalyst.Thelayernumbersofgraphenerangefrom 1 t015.BytransferringthesegraphenefilmstoglassandSi/SiOzsubstrates.Thetransmittanceandsheetresistanceare £j ∞ 口 T_ measured.Inaddition,theapplicationofgrapheneastransparentconductiveelectrodeinopto-electronicdevice

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