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光电工程
维普资讯
第 31卷 增刊 光电工程 Vo1.31,Sup
2004年 12月 ElectronicEngi Dec,2004
文章编号:1003—501X(2004)Sup一0070-03
电子一离子双束纳米工作站
马向国 2,顾文琪 。,韩 立 。
(1.中国科学院电工研究所,北京 100080;2.中国科学院研究生院,北京 100039)
摘要:现代微电子工业迅猛发展,对电子设备的精度和功能也提出了新的要求。电子一离子双束纳
米工作站是扫描电子束和聚焦离子束技术的独特融合,突破 了只能对表层成像和分析的局限,它
可以对样品进行三维的、表面下的观察和分析,也可以切割、研磨样品材料和沉积特定的材料,
用它可以获得以前无法得到的样品信息。该工作站为研究人员和制造人员提供 了一种对多种样品
在纳米尺度进行修改、制作和分析的有效工具。
关键词:扫描电子束:聚焦离子束;微电子技术
中图分类号:TN4 文献标识码:A
Electronandiondualbeam nanometerworkingstation
M A Xiang.guol一 GU W eln.qil HAN Li
, ,
r1.TheInstituteofElectricalEngineering,theChineseAcademyofScience,Beifing100080,Chma;
2.GraduateSchooloftheChineseAcademyofScience,Beifing100039,China)
Abstract:With therapiddevelopmentofmodem microelectronicsindustry,thenew requesttOhte
precisionandfunctionofelecrtonequipmentisbroughtforward.Bycombininghtescanningelcerton
beam andfocusedionbeam technology,adualbeam nanometerworkingstationissetup.Itbreakshte
limitofimagingand analyzingtO samplesurface.Samplescanbeobservednad analyzed inhtree
dimensionsandintohtesurface.ThestationCna alsocut.gr~ndnadsedimentatesomematerialonhte
sample.ThisnanometerworkingstationoffersUSthesampleinformationwhich can’tbeobtained
formerlyand na efficienttoolwhichcanamend,mkaeandnaalyzemulti-sampleswithnanometer
dimensions.
Keywords:Scnaningelecrtonbeam;Focusedionbeam;M icroelecrtonictcehniques
引 言
随着材料/生物样品和先进器件的复杂性不断提高、尺寸不断缩小,聚焦离子和电子双束设备的应用领
域不断扩展。“双束”(FIB/EB)系统突破了只能对表层成像和分析的局限,它可以对样品进行二三维的、表面
下的观察和分析,也可以利用双束系统对样品材料进行切割和沉积特定的材料,使得用户可以获得以前无
法得到的样品信息,从而为材料科学,特别是纳米技术,提供了一种新型的微细加工的手段。
1 双束系统的结构及工作原理
1.1 聚焦离子束系统的工作原理
聚焦式离子束技术是利用静电透镜将离子束聚焦成微小尺寸的显微切割技术,目前商用FIB系
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