电子束反应蒸发氧化物薄膜的应力特性.pdfVIP

维普资讯 第 28卷 第 1期 光电工程 V0l1．28． No．1 2001年 2月 Opto-EleclronicEng Fcb。2001 文章编号：1003 501X(2001)01—0013 03 电子束反应蒸发氧化物薄膜的应力特性 熊胜明，张云洞 ，唐晋发。 (1．中国科学院光电技术研究所，四川成都610209； 2 浙江大学光电信息工程学系，浙江 杭州 310027) 摘要 ：研 究了反应 电子束蒸发氧化物光学薄膜在空气中的应力。为 了找到能减小多层膜结构内 应力的淀积工艺参数，洲试了氧化物膜层 O2，Ta2 ，siO2，A ()3，Hfo2的应力，发现有些膜层 为压应力，一些高折射率膜 为张应力。实验表明，热处理可以有效地降低氧化特膜层 光学吸收。 并改变应 力。 关键词：光学薄膜；热处理；应力分析；电子束蒸发 中围分类号 ：O484．4 文献标识码：A TheStressPropertiesofOxideThinFilmsPrepared byReactiveElectronBeam Evaporation XIONG Sheng-mingt，ZItANGYtm-ckmg1，TANG Jin- (1．InstituteofOpticsandElectronics，ChineseAcademyofSciences， Chengdu610209，China；2 Det~trlmentofOpto~ElectrnoicsInformation En neering，ZhejiangUniversity,Hangz)mu310027，China) Abstract：Thesresses0foxideoptiealthinfflr~spreparedbyre~etlvedeetrno beam evaporation havebeenins,estigatedinair．Inordertofindoutthedepositionteehnologlcalparametersforreduc— inghtestr~sofmulti—layerfilm structurc，thestressesoftheoxidefilmssuchasTiO2，T赴 ， siO如A120~andH哎)2arctested．wedls∞verthatthestressesin蛐 efilmsarccompressivestress— esandtheohtersarctensionstresses．Theexperimenisrevealthattheheattreatnaentcaneffectively reducetheopticalabsorptionandchangetheslr~s． KeywoldsiOpticalflims；Hcattreatment；Stressanalysis；Electronbeam evaporation 引 言 现代光学系统，特别是大型激光系统，需要大量的反射镜、分光镜、镀有增透膜的透镜、滤光镜等光学 薄膜元件，井要求尽可能高的传输效率。薄膜应力影响光学基片的平面度，使光波人射到光学元件上时其 反射光束的波前产生变形Ll 。因此，为了降低基片变形成避免膜层太厚造成的龟裂破损，了解和控制 薄膜的应力影响就变得极其重要。 一 般来说，薄膜残余应力分为三部分_3 ：热应力，主要由材料闻热膨胀系数不同造成i外应力，主要 由连接膜层和环境之间的膜层中的杂质产生；内应力，由镀膜工艺技术引起。总之，应力取决于材料、淀积 工艺技术和各种环境参数。一般说来，现代的离子柬溅射、离子辅助和离子镀等镀膜技术制备的膜层是致 密的，表现为鹰应力，而蒸发技术制备的膜层是多孔的，避常显示出张应力。过去有些关于降低激光系统 收葛 日期：2a00—08 29 作者简介：熊畦明(1964一 男f程族)，四}l