激光诱导液相电极腐蚀新方法.pdfVIP

维普资讯 第33卷第 l2期 光电工程 Vo1．33，No．12 2006年 12月 Opto—ElectronicEngineering Dec．2006 文章编号：1003—501X(2006)12一Ol36—05 激光诱导液相电极腐蚀新方法 陈镇龙，叶玉堂，刘 霖，范 超，田 骁，吴云峰，王昱琳 (电子科技大学 光电信息学院，四川 成都 610054) 摘要：提出了-tee激光诱导液相腐蚀新方法一电极腐蚀法 电极腐蚀法是指进行激光化学液相腐 蚀时，在腐蚀溶液中添加电极，以吸引反应中间离子脱离基片表面，实现腐蚀的持续稳定进行。 理论分析和实验结果都表明，电极腐蚀法可以有效地加快激光腐蚀的进程；吸附在基片表面的离 子在电极作用下，快速迁移出基片表面，保证 了基片表面腐蚀溶液构成的稳定，进而得到更加均 匀的腐蚀表面；利用电流随腐蚀速率变化而变化的特点，使腐蚀速率和深度的直接监控转变为对 腐蚀电流的间接控制，简化腐蚀控制方法 基于以上优点，电极腐蚀法可以克服现有激光腐蚀方 法的诸多弊端，改善激光腐蚀性能，在特殊结构光电器件的制作和半导体的微细加工中具有广阔 的应用前号。 关键词：激光诱导腐蚀；光电子；III—V族半导体 中图分类号：TN405 文献标识码：A New methodusingelectrodesinlaserinducedwetetching CHEN Zhen—long，YEYu—tang，LIU Lin，FAN Chao，TIAN Xiao，W U Yun—feng，WANGYu—lin (SchoolofOpto—electronicInformation，UniversityoJ。ElectronicScienceandTechnologyofChina， Chengdu610054，China) Abstract：A new method-- laser-assistedwetelectrode—etchingisproposed，whichappendselectrodes inlaserinducedwet-chemicaletching．Thecurrentinsolutionmayimpeltheionleavingthesurfaceof substrateandmaketheetchingprocessingsteadily．Afterexperiments，thelaseretchingplo‘cesswas effectivelyquickenedbythismethodandthesmoothetchedsurfacewasobtained．Furthermore，the etchingvelocityshouldbecontrolledindirectlybyCLIIr‘entinsolutionandthemethodtocontroletching canbesimplified，becausethecurrentthecurrentvarieswiththeetchingvelocity．Forallmentioned above，thenew laser-assistedwetetchingmethodcanovercomethedisadvantagesoftheconventional ones，improvethe laser-etching performanceand itwillbeusefulin theareaofspecial—structured optoelectronicdevices’fabricationandsemiconductor’Sminutenessmachining． Keywords：Laserinducedetching；Optoelectronics；I『I—V semiconductor 引 口 激光诱导腐蚀是近年来发展起来的-*b新的半导体器件微细加工技术