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光电工程
维普资讯
第 32卷第 l0期 光 电工程
Vo1．32．No．10
2005年 10A Opto—ElectronicEngineering
0ct．2005
文章编号：1003-50IX(2005)10—0093—04
冷压印光刻中斜纹光栅对准信号计算模型
成 丹 ，卢秉恒 ，丁玉成，王
(两安交通大学 机械制造系统国家重点实验室 ，陕两 西安 710049)
摘要：采用傅里叶光学的方法，分析 了冷压 印光刻 中新型斜纹光栅对准标记的透光特性
。 分析表
明，对准信号与光栅副相对位移之 间是正弦变化关系，且对准位置附近是一个陡直的线性区
。 该
区对准信号的灵敏度很高，适合于多层套刻对准，根据信号和位移的线性关系
， 给 出初步的对准
信号计算模型。由于抗蚀剂的存在，使晶片表面反射率随位移而变化
， 提出用反射率因子进行修
正的方案。反射率因子 中包含有位移信息，将其与初步对准信号模型相乘
， 得到修正的计算模型。
由新模型，研究了抗蚀剂平均厚度不同对对准信号的影响，说明要获得高灵敏度的信号
， 抗 蚀剂
厚度应取满足压印条件的最小值。
关键词：压印光刻：斜纹光栅；对准：傅里叶光学；莫尔条纹
中图分类号：TN305．7 文献标识码 ：A
M 0delforthecalculationofslantgratingalignmentsignals
ofroom-temperatureimprintlithography
莉
CHENG Dan，LU Bing-heng，DING Yu．cheng
， WANG Li
StateK LabforManufacturingSystemsEngineering．
Xi’nnJiaotongUnile‘rsi0’，Xi’aH710049
． China、
Abstract： An alignmenttech
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