离子束溅射沉积Ta2O5光学薄膜的实验研究.pdfVIP

维普资讯 第31卷第3期 光电工程 Vo1．3l,No．3 2004年 3月 tO—Electronic En~ineerin March，2004 文章编号：1003—501X (2004)03—0041—03 离子束溅射沉积Ta2O5光学薄膜的实验研究 刘洪祥，熊胜明，李凌辉，张云洞 (中国科学院光电技术研究所，四川 成都 610209) 摘要：根据择优溅射的理论，在不同的通氧方式下，详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta20 薄膜光学特性的影响。结果表明，在薄膜生长的过程中，由于氩离子的轰击作用，薄膜中的氧原 子被优先溅射出来，造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加 但是，通过优化辅助离子源中氧气 的比例，可获得合理化学剂量比、低损耗的Ta2o 薄膜。 关键词：离子束溅射；光学薄膜；离子辅助沉积；光学特性 中图分类号：0484、4 文献标识码：A Experimentalstudyforionbeam sputteringdeposition ofra205opticalthinfilm LIU Hong-dang，XIONGSheng-ming，LILing-hui，ZHANGYun-dong (InstituteofOpticsandElectronics，ChineseAcademyofSciences，Chengdu610209，China) Abstract：AccordingtO thepreferred sputtering theory,theinfluenceofionassistbombardmenton opticalpropertiesofion beam sputteringdepositedTa2Osfilm underdifferentoxygen introducing conditionsisanalyzedindetail．Theresultsshow thatduringthegrowingprocessoffilm，oxygenatoms arefirstsputteredinhtinfilmsbecausehtebombardmentofargonionandhtisleadstOchemicaldosage on film disproportionalnadabsorptionincrease．ThereasonablechemicaldosagerationadTa205film withlow lossCna beobtainedthroughoptimi zingoxygenratioinassistionsource． Keywords：Ionbeam sputtering；Opticalthinfilm；Ionaiddeddeposition：Opticalproperties 引 言 在可见光谱区内，Ta2O5材料有着比较高的折射率，并且具有比较宽的光谱透过范围(300nm-1 m)， 因此，Ta2Os薄膜被广泛应用于光学领域，由于它具有很高的硬度，同时还被用做保护膜 。目前，制备Ta205 薄膜的方法很多，一般有电子束热蒸发、反应磁控直流溅射 、离子辅助(IAD)、离子注入和离子束溅射等， 但在工业生产中，主要还是利用电子束蒸发技术。 传统电子束蒸发技术制备的薄膜，由于热蒸发粒子具有的动能相对较低(0．0卜0．1eV)¨J，呈现柱状结构 且存在大量的针孔，薄膜不够致密，折射率较低，易受潮，吸收大，光学稳定性差和表面散射大等一系列 缺点 。而离子束溅射沉积的薄膜，由于沉积粒子的能量较高 (约比电子束蒸发大两个数量级)，具有高的堆 积密度，折射率接近于体材，薄膜具有较好的光学稳定性、吸收小、散射低等优点。可见，离子束溅射技 术是一种制备优质光学薄膜的重要方法，在可见光及红外光谱区显得尤为重要 。 离子束溅射沉积氧化物光学薄膜，