离子束溅射沉只干涉光学薄膜技术.pdfVIP

维普资讯 第 28卷第 5期 光 电工程 Vb1．28，No．5 2001年 10月 ElectronicEngineering Oct,2001 文章编号：1003-501X (2001)05—0069—04 离子束溅射沉积干涉光学薄膜技术 张云洞， 刘洪祥 (中国科学院光电技术研究所，四川 成都 610209) 摘要：离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量光学薄膜的一种非常重要的方法，它具有 其它制膜技术所无法比拟的优点。但是，国内对这方面的研究和介绍甚少，且蚌见报到。本文着 重介绍了离子束溅射技术的发展、原理和特征以及应用前景。 关键词：离子束溅射；光学薄膜：光腔袁荡 中图分类号：0484．4 文献标识码：A Prml~etionofOpticalCoatingswithIomBeam SputterDepositionTech．iqee ZHANG Yun-dong， LIUHong-xiang (1~tituteofopacsandElectronics．ChineseAcademy ofSciences,Chengdu610209，Chn／a) Abstract：Ion beam spuRering depo ~fion technique isan importantmethod for preparation of high—qualityopfic~ coatingsdevelopedinrecentyears．Ithassomeincomparableadvantagesthna htat ofhteohtercoatingdepo~tiontechniques．Buthteresearch，introductionna dreportsforhtistechnique a把 veryfew．Thedevelopment, nciple，chraacteristicsandapplicationprospectofhtistechniqueare emphaticallyintroducedinthepaper． Keywords：Iohe．am sputtering；Opticalfilms；Caviytdecay 引 言 我们知道，早期的光学薄膜一般是采用电子束蒸发技术制各的。但是，国内外的研究表明，这种制膜 技术 自身存在着很多不完善的地方，难以制各出反射率突破99．99％的高质量光学薄膜。然而，经过近三十 年的发展，离子束溅射技术已成为制各高质量光学薄膜的一种晟有效的方法，运用这项技术可以很容易地 制备出损耗小于40ppm的介质干涉薄膜 “，其早期主要应用于激光陀螺和高功率激光镜的研制。目前，随 着光子时代的到来，在国外，这项技术越来越引起人们的格外关注，已有大量的科研人员投身到运用离子 束溅射技术制造波分复用器的研究中去。在其他领域，离子束溅射技术也同样显示了其强大的生命力。 但是，国内对这方面的研究和介绍甚少，且鲜见报到。下面，我们着重介绍了离子束溅射技术的发展、