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光电工程
维普资讯
第 3O卷第 3期 光 电工程 Vo1．30，No．3
2003年 6月 Opto—ElectronicEngineering June，2003
文章编号：1003-501X(2003)03-0013-04
连续面形微光学元件 的深刻蚀工艺
唐雄贵，杜春雷，邱传凯，董小春，潘 丽
、 ●
．
(中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室，四川 成都 610209)
摘要：利用电感耦合等离子 (ICP)刻蚀技术，在石英上刻蚀深连续面形微光学元件。分析 了影响
深刻蚀工艺的烘焙条件 、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数，并对影响深刻蚀稳定性、，
均匀性 、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨。通过实验 ，在石英上制作 出深达 55微米的浮雕微柱
透镜，其面形峰值误差小于 3％。
关键词：微光学元件；深刻蚀 ；等离子刻蚀；连续面形
中图分类号：TN256 文献标识码：A
Fabricati0n0fContinuousSurfaceM icro．Optical
Elem entsUsingDeepEtchingTechnology
TANGXiong-gui，DUChun-lei，QiUChuan-kai，DoNGXiao-chun，PAN-Li
(StateKeyLaboratoryofOpticaltechnologiesfo，．Microfabrication，Instituteof
OpticsandElectronics，ChineseAcademyofSciences，Chengdu610209，China)
Abstract：The micro—opticalelementswith continuoussurface areetched on quartz by meansof
inductivelycoupledplasmaetchingtechnologies．Themaintechnologicalparametersthataffectingdeep
etchingtechnologiessuch asbakingconditions，aircomposition，self-biasandetchingtemperaturerae
analyzed，andhtefactorsthataffecting stabilityanduniformityofdeep etching，etchingpollutionand
damageraediscussed．Thereliefmicro—cylindricallenswiht adepht of55gm isfabricatedonquartznad
itspeka profileerrorislesshtan3％．
Keywords：M icro—Opticselements；Deepetching；Plasmaetching；Continuoussurface
引 言
二元光学 l【】的最初提出是为了解决连续面形微光学元件制作困难的问题 ，采用量化的方法将连续面形
用多个台阶来近似逼近 ，其衍射效率与台阶数有直接的关系。随着量化台阶的增多，须反复多次进行套刻 ，
从而不可避
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