纳结构三维形貌高精度测试系统.pdfVIP

第 37卷第 1期 光 电工程 V_01．37．NO．1 2010年 1月 Opto—ElectronicEngineering Jan．2010 文章编号：1003—5olx(2olO)Ol一0019—06 微 ／纳结构三维形貌高精度测试系统 谢勇君 。，史铁林 2，刘世元2 (1．暨南大学 电气 自动化研究所，广东 珠海 519070； 2．华中科技大学 数字制造装备与技术国家重点实验室，武汉 430074； 3．武汉光电国家实验室(筹)光 电材料与微纳制造研究部，武汉 430074) 摘要：为实现微／纳结构三维形貌的高精度测量，提 出利用显微干涉技术和偏振技术相结合的方法来研制微 ／纳结 构三维形貌亚纳米级精度测试系统。首先，利用五步相移干涉技术采集 5幅带有n／2相移增量的干涉条纹图。然 后，通过Hafiharan五步相移算法得到包裹相位图。最后，利用分割线相位去包裹算法和相位高度关系转换得到微 ／纳结构三维形貌。在测试过程中通过偏振片产生强度可调的线偏振光，再由12／波片改变偏振光在分光镜中的分 光比，补偿参考镜与试件的反射性能差异，可得到亮度适中且对比度高的干涉条纹图，从而有利于实现微／纳结构 三维形貌的高精度测量。系统的轮廓算术平均偏差 的重复测量精度可达0．06nm，最大示值误差不到±l‰ 示 值变动性不到0．5％。通过对标准多刻线样板、硅微麦克风膜和硅微陀螺仪折叠梁的三维形貌测量验证了系统的有 效性和实用性 。 关键词：铷 纳结构；显微干涉；偏振技术；三维形貌 中图分类号：TH741．8 文献标志码：A doi：10．3969~．issn．1003—501X．2010．01．04 M easurementSystem for3D ProfileofM icro／Nano StructureswithHighResolution XIEYong-jun，，SHITie．1in拍，LIUShi．yuan (1．InstituteofElectricAutomatization，JinanUniversity，Zhuhai519070，GuangdongProvince，China； 2．StateKeyLaboratoryofDigitalManufacturingEquipmentandTechnology， HuazhongUniversiytofScienceandTechnoloyg，Wuhan430074，China； 3．DivisionofOptoelectronicMaterials＆Micro-NanoManufacture． WuhanNationalLaboratoryfor@ to—electronics，Wuhan430074，China) Abstract：Inordertotest3D profileofmicro／nanostructureswithhighresolution，ameasurementsystemwasdeveloped basedonmicroscopicinterferometryandpolarizationtechnique．First,fiveinterferogramswithn／2-phaseincreasewere acquired by five--step phase—·shift interferometry．Then wrapped phase maps were calculated with Hari