14nm低原子序数材料多层膜的设计和制备.pdfVIP

第19卷第6期 光学精密工程 V01．19No．6 andPrecision 2011年6月 0ptics Engineering Jun．2011 文章编号 1004—924X(2011)06—1192一07 14 nm低原子序数材料多层膜的设计和制备 吴文娟h，张 众2，朱京涛2，王风丽2，陈玲燕2，周洪军3，霍同林3 3．中国科技大学国家同步辐射实验窒，安徽合肥23∞29) 摘要：为了减小常规多层膜的带宽，提高其光谱分辨率，对采用低原子序数材料组成的适用于极紫外和软x射线波段的 多层膜进行了研究。首先，在14nm波长处选取3种低原子序数材料对Si／B4C，Si／c和si／SiC组成多层膜，用随机搜索 的方法优化设计了这3种多层膜以及在此波段常用的Mo／si多层膜。然后，用直流磁控溅射的方法制备si／B4C，Si／C， Si／SiC和Mo／si多层膜，并用x射线衍射仪测量拟合多层膜的周期厚度。最后，用同步辐射测试多层膜的反射率。同 步辐射测试结果显示，Mo／Si多层膜的带宽最大，为o．57nm；si／sic多层膜的带宽最小，为o．18nm，结果与理论基本一 致。实验结果表明，低原子序数材料多层膜的带宽要比常规Mo／si多层膜窄，使用低原子序数材料组成多层膜可以提高 多层膜的光谱分辨率。 关键词：极紫外与软X射线；多层膜；低原子序数材祷；磁控溅射；光谱分辨率 中图分类号：0484．1；0434文献标识码：A doi：10．3788／oPE．z0111906．1192 and on oflow—Zmaterialsat14nm manufacture Design multilayers WU Wen．juann，ZHANGZhon92，ZHU Feng～Ii2， Jing—ta02，WANG CHEN Ling—yan2，ZHOUHong—jun3，HUoTong—lin3 2014l8，(浼主行口； (1．(’oZZegPo，SciP翘cP5，S^口行g矗ni，72s￡iz托￡PD，T■f^九DZDg了，S^口咒g^Df 2．j扎s￡i芒“ze o厂PrPfis主07zo户芒icnZE竹gz咒e已ri7zg，Dep口r￡7孢e竹￡o，P矗了sifs， 200092，(流i前日；3．N口芒io行口Z 了’0咒gJ￡L7hf口P，百i￡y，S^口，zg矗ni S了，zf矗，‘ozro携Radi丑zio行 230029，C^i佗口) L口60r以￡ory，L7砬i础ersi芒yo，Sci已卯cP口竹d丁■c^，20Zogyo厂C^i以口，HP弘i 63．com *Co，-rPs户。挖di咒g以“￡^or，EL，扎口iz：议，M叫。志@1 Abstract：Inordertodecreasethebandwidthofthenormal and the reso— multilayersimpr