18万ta高电流密度离子膜烧碱装置运行总结.pdfVIP

第11期 氯 碱 工 业 No．11 2006年11月 Chlor—Alkali Nov．．2006 Industry 18万t／a高电流密度离子膜烧碱装置运行总结 吴彬+，周延红 (新疆天业化工有限责任公司，新疆石河子832000) [关键词]离子膜电解槽；高电流密度；烧碱 [中图分类号]TQll4．262[文献标识码]B [文章编号]1008—133x(2006)11—0020—02 1 工艺简述 表l一期离子膜电解檀72h性能考核值 考核项目 72 新疆天业化工有限责任公司18万∥a离子膜 保证值 h考核值 装置一次盐水精制采用HVM膜过滤技术，二次盐 水精制采用两套树脂塔，三塔流程，塔均为过滤网结 构；电解采用加酸工艺，分为两套；氯气、氢气在气相 调节阀后并为一套总管，送至氯氢处理工序，脱氯系 统为两套，均为真空脱氯。这套装置的控制部分为 氯氢处理工段与电解工段纳入一套日本横河的 cs3000 Dcs控制系统，操作人员可同时观察和控制 二期电解槽于2005年8月28日一次送电成 整个系统的气相压力，为顺利开车和平稳运行起到 功，性能考核情况见表2。 了至关重要的作用。 表2二期离子膜电解槽72h性能考核值 72 2主要设备 考核项目 保证值 h考核值 电解槽是引进日本旭化成公司NCH高电流密 度自然循环电解槽，设计电流密度4．7kA／m2，极限 电流密度5．5kA／m2，共9台电解槽。 离子膜是日本旭化成公司F一4401全氟羧酸磺 酸复合膜，性能优良，由面向阴极的电流效率高的羧 酸层、面向阳极电压低的磺酸层以及增强聚四氟乙 烯网组成，具有电流效率高和电压低的特点。 3工艺运行 kA／m2运行72h进行极限值考核，槽温86．88℃， 210 平均单槽电压3．18V，直流电耗2 kw·h／t。 一期电解槽于2004年11月26日送电，初期氯 氢气调节阀PID参数设定不到位，氯氢处理工序操 性能考核结束后，电解槽运行高效平稳。一期 作人员对自动控制系统不适应，出现压差连锁跳停， 电流效率如图1所示。二期装置开车后，一二期电 11月28日，在日方技术人员的协助下，通过对氯 气、氢气调节阀PID参数的反复整定，氯氢处理工序 车至2006年6月18日计划检修，两套电解槽共 操作实行自动控制，系统逐步稳定。性能考核情况 1204张离子膜运行近10个月，无一泄漏，打开电解 见表1。值得一提的是，2005年3—8月期间，一期槽检查，离子膜平整无杂质污染，电解槽网面光滑无 电解槽电流密度达到5．14kA／mj运行时，槽温沉积杂质，令日本专家非常赞叹。 87．9℃，平均单槽电压3．14V，直流电耗2172 kW．h／t。 + [作者简介]吴彬(1970一)，女，高级工程师，毕业于中国科学院研究生院，现任新疆天业化工有限责任公司总经 理。 [收稿日期]2006—07—31 20 万方数据 第11期 吴彬：18万L／a高电