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低温合成高铬烧结料.pdf

MfH∞cA『LfA0/耐火材料20D,,35f4J T99—20j,204 豫究开发 低温合成高铬烧结料 口 梁永和1’ 李楠1’ 钱新伟1’ 吴芸芸1’ 孙承绪2’ 2 华东理工大学 mm 摘要通过对高纯氧化铬的烧结温度和烧结气 o.02;使用的炭粉包括粒度为O~3 K:O+№:0 氛以及保温时问的实验研究,利用复合覆盖剂的方 式,确定了无反应层高铬料的最佳烧成温度为 的组成见表1,石墨灰分中各组分的质量分数 % 1550℃保温1h,其相对密度可逸97%以上。 16.3。ca0 分别为:si0238.5l,A120312.83,Fe203 关键词低温.无反应层高铬料,复合覆盖剂 12.2,Mgo6.“,K201.32,Na20 9,s 1.42,Ti02 O.88。 O.008,P205 纯cr20,和高cr203耐火材料由于难于烧结而 表1—198石墨与焦炭组成 1 and TabIe of coke∞/% composiIion9陋洲le 影响了其发展和推广,而cr20,具有优良的抗熔渣、 耐酸碱侵蚀性能。在含cr20,材料中随着cr20,含成分 放分 挥发分 H20 固定碳 石墨 1.50 O.69 O.58 卯2 量的提高,材料的硬度、抗侵蚀性都有明显提高,因 塞塞 !!:竺 !:兰竺 !:坚 坠:! 而发展高cr20,材料是提高抗侵蚀性的重要方向。 不加任何结合剂将试样全部于150MPa成型 目前,在水煤浆气化炉、炼钢二次精炼炉及有色冶 为犯ommx20mm的试样,在电炉中分别于氧化 金工业熔炼炉中均有应用。特别是水煤浆气化炉 用的热面砖衬高铬材料,国内虽有少数厂家能够生 qc,1550℃,1600℃烧成,保温1h;氧化气氛下 产,但全部采用电熔Cr20,作为原料,因电熔料中残 余碳化物和金属cr的存在,使产品合格率较低。 行,保温时间延长到3h。 国外进口产品虽采用烧结高铬料作为原料,但价格 昂贵,因此寻求一种烧结合成高铬料则成为当务之 2结果与讨论 急。高铬材料难以生产的主要原因是cr20,在氧化 2.1烧成温度与气氛 气氛下难以烧结致密化““J。如果控制其在还原 烧成温度与烧成气氛对烧结的影响如图l~3 气氛下烧结,则工艺条件非常复杂。埋炭烧结因碳 所示。从中可知,随着烧结温度的提高,无论是在 与cr20,反应形成反应层”』,使其去除非常困难, 还原气氛 埋炭 还是氧化气氛 空气 下,试样的 同时反应形成的碳化物和金属Cr对制品也将产生 显气孔率均下降,而体积密度或相对密度均增大, 恶劣影响。针对这种情况,本实验采取一些特殊措 表明温度的升高有利于Cr20,的烧结致密化。但是 施,确定了能够使cr20,在1550℃下即可达到充分 在氧化与还原气氛下烧结时,它们之间却有相当大 烧结致密化并且没有反应层的工艺条件,从而给高 的差异。氧化气氛下即使烧结温度高达1800℃ 铬材料的生产和使用开辟了新途径。 基本不产生烧结,相对密度保持不变。在还原气氛 l 实验 实验中所选用的Ck0,为颜料级氧化铬,平均 粒度为1.83仙m,各组分的质量分数 % 分别为: ÷粱永和男,1959年生,副教授。 0.1,M90O.019, 98.76,cao0.1l,Si02 收稿日期2舶l—05—24 编辑·事光辉 Cr203 199 2001/4 c^Iu^0 耐火材料/悯Hu0 万方数据万方数据 温度超过1550℃后,温度对于最终烧结的影响已 能够使试样在埋炭烧结时处于充足的还原性气氛 不是十分明显,所以认为cr20,在还原气氛下适宜 条件下,而且不能在试样表面形成反应层.我们采 的烧结温度为1550oc。 取复合覆盖剂措施即可满足以上要求。 。::广——~ 篓封 一氧化 乎没有变化,与采用炭覆盖荆时的结果是一致的。 够睦~兰 故烧成温度以1550℃为宜。 1450 1500 1550 1600 烧成温度/℃ 图1不同气象下cko,的烧后气孔宰与烧成温度的关系 al The sinIe帕ddiffe怕nl Fig.1 poros耐ofcompacts temDe旧tureS 税戚温度/℃ 爨 \ 毯 圈4复合覆盖荆条件下烧成温度对试样烧结的影响 Inauence of oftempe忸tu帕onsampIes 枷 Fig.4 sinIering 船 呐c。m∞silecOve俜 靶 cr20,的烧结机理在初期为体积扩散,后期变 450 1500 1550 j600 为蒸发一凝聚过程”J。通过对不同气氛下烧成试 烧成温度/℃ 样进行对比,发现氧化性气氛下烧成的试样与烧前 圈2不同气氛下c‘O,的相对密度与烧成温度的关系 The旧Iaave

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