Nd薄膜靶表面氧化过程研究.pdfVIP

第 9 卷　第 2 期 强　激　光　与　粒　子　束 V o l. 9,N o. 2 1997 年 5 月 H IGH POW ER LA SER AND PA R T ICL E BEAM S M ay. , 1997 Nd 薄膜靶表面氧化过程研究 ab a a a a 赖珍荃 　陈建荣 　 杜保旗 　陈玲燕 　王　 珏 (a b ) 同济大学物理系, 上海　 200092　 南昌大学物理系, 南昌　330047 摘　要　 用 电子能谱( ) 对 光激光实验使用的 薄膜靶的表面氧化进行了分 A uger A ES X N d 析, 结合A r 离子束刻蚀进行元素的深度分布剖析, 得到了表面氧化层厚度, 所得结果与R uther 背散射( ) 方法测量的结果相吻合。实验表明, 样品暴露在空气中 20 至 30 , 氧化即基本 fo rd RBS m in 达到饱和, 相应的氧化层厚度约为 20nm , 氧化层的组分以N dO 为主。 关键词　 薄膜靶　氧化　 光激光　 N d X A ES ABSTRACT　 T he p rocess of the surface oxidizing of N d th in film s used in X ray laser exper . im ent is studied th rough A ES m ethod com bined w ith A r ion beam etch ing T he experim ental re , , sults w h ich agree w ell w ith that of RBS show that the surface oxidisation of N d is saturated just 20～ 30 m inutes after the samp le expo sed in air, the m ax th ickness of oxide layer is about 20 nm , and the m ain compo sition of oxide layer is N dO. 　 , , , KEY WORD S N d th in film oxidisation X ray laser A ES 0 　引 　言 利用电子碰撞激发机制造成粒子数反转的条件, 产生X 光激光增益是近年来国际上X 光