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MEMS 交流网 - 专注于 MEMS 的门户网站 / MEMS制造技术之LIGA 技术 ——摘录整理自《微纳米技术及其应用》,有删节 1.LIGA技术简介 1986年德国W.Ehrfeld教授首先开发了进行三维微细加工最有前途的方法 ——LIGA 技术。LIGA 一词来源德文缩写,LI(lithographie)为深度 X 射线刻 蚀,G(galvanformug)为电铸成型,A(abformug)为塑料铸模,即深度X射线 刻蚀、电铸成型、塑料铸模等技术的完美结合。 最近,德国美茵兹微技术研究所(IMM)发展了使用准分子激光烧蚀与LIGA 技术结合的新加工工艺。 日本先进制造开发协会在 1992 年建立 LIGA 技术委员会,其成员包括 7 家 私人公司,3家国立实验室,一所大学和一个微机械中心。在美国,LIGA技术得 到威斯康星州立大学的Henry Guckel教授的大力推动。而且Henry Guckel教授 领导的研究小组对LIGA技术进行了改进,开发出了SLIGA技术。 目前,基于 LIGA 或准 LIGA 技术研究的成果有微型传感器(温度传感器和 加速度传感器)、微电机、微型泵、集成光学和微光学元件、微型马达、涡轮机、 微型喷嘴、微型滤波片、微型机械零件、微型医疗器件和装置、流体技术微元件、 纳米技术原件及系统。 LIGA技术是微细加工的一种新方法,主要工艺过程如下: 1)、深度X射线刻蚀 利用深度同步辐射 X 射线在数百微米厚的光刻胶上刻蚀出较大深宽比 的光刻胶图形,高深宽比一般达到100. 2)、电铸成型及制模 利用光刻胶层下面的金属膜层作为电极进行电铸,将显影后的光刻胶 所成型的三维立体结构间隙用金属填充,直到光刻胶上面完全覆盖金属为止,形 成一个与光刻胶形状互补稳定的相反结构图形。此金属结构可作用最终产品,也 可以作为批量复制的模具。 3)、铸模复制(塑铸) 由于深度同步辐射X射线光刻的代价大,制作X光刻掩膜也并不简单, 所以在批量生产中采用子母模的办法。塑铸为大批量生产电铸产品提供了塑料铸 模。将去掉基板和光刻胶的金属模壳附上带有注入小孔的金属板,从注入孔向模 腔中注入塑料,然后去掉模壳。在金属板上留下一个塑料结构,次塑料结构可作 为产品,也可将它作为模芯,便复制出一个塑料微结构产品。 与传统微细加工相比,用LIGA技术进行超微细加工有如下特点:①可制造 有较大深宽比的微结构;②取材广泛,可以使金属、陶瓷、聚合物、玻璃等;③ 可制作任意复杂图形结构,精度高;④可复制,符合工业上大批量生产要求,成 本低。 仅仅利用LIGA技术的典型工艺还不能制造出有活动要求的可动微结构,引 入牺牲层腐蚀技术,可以打打地拓展LIGA技术应用领域,突破了原来LIGA技术 只能制造固定在基板上的微机构图形的限制,为任意集合形状可动的三维结构制 作开辟了道路,于是就可以制作出能自由摆动、选择、直线欲动的可动微结构器 件。 MEMS 交流网 - 专注于 MEMS 的门户网站 / 2.准LIGA技术 1993 年 Allen 提出用光敏聚酰亚胺实现准 LIGA 技术,它是利用常规的紫 外线光刻设备和掩膜,制作高深宽比微金属结构的方法。准 LIGA 的工艺除所用 光源和掩膜外,与LIGA工艺基本相同。主要工艺过程如下:①紫外光光刻成模; ②电铸或化学镀成型及制模;③塑铸。 准LIGA的光刻成模工艺工程如下。 1)、光刻胶 准 LIGA 中的光刻成模工艺利用光刻胶制作高深宽比结构的方法大体说来 有四种:①加利福尼亚科技大学早在 1993 年就采用光敏聚酰亚胺与紫外线曝光 技术结合来制铸模,厚度可达50um,而宽度比达8;②德国弗兰霍夫硅技术研究 所所采用商用正性光刻胶(如 AZP4620)和 UV 光源,厚度达 100um,高深宽比为 10;③RIE(反应离子刻蚀聚酰亚胺)具有精度高、图形边缘整齐等优点,该法 厚度可超过 100um,而高宽比近 10,但该法要求改装 RIE 机器本身;④瑞士 Neuchatal 大学微机械节哀公研究所运用商用负性光刻胶通过二次涂敷厚度可 达150um,高宽比可达10.

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