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2015-09-11 发布于湖北
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电子束蒸发制备PbI2膜及其光学性能研究.pdf

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第39卷第4期人工晶体学报 v01．39No．4 ：：垫!：!兰!星：：一==：：：：：：!里坚些些塑呈!兰型!旦曼!!墅：墅坚!塑垒堑一：：=：：一：垒坚壁坠垫!! 电子束蒸发制备Pbl2膜及其光学性能研究朱兴华，杨定宇，魏昭荣，孙辉，李乐中，高秀英，杨军 (成都信息工程学院光电技术学院，成都610225) 摘要：采用电子束蒸发法制备PbI：膜，研究不同工艺参数对制备样品光学性质的影响。结果表明，制备样品属于六方相多晶结构，随衬底温度的升高，样品中的I元素含量降低并趋于理想化学配比。随着衬底温度的升高，PbI：膜的光谱透过性能逐渐改善，吸收边沿低能一侧的拖尾逐步消除，源自样品结晶质量的提高。根据紫外一可见透过谱，计算了不同条件下制备样品的厚度、折射率、吸收系数和光学带隙。结果发现，随衬底温度的升高，制备样品的折射率和光学带隙出现波动变化，但吸收系数单调增大。在相同的衬底温度下，35cm的源一衬问距下制备的样品具有最大的光吸收系数，归因于该系列样品较高的致密度。关键词：PbI：膜；衬底温度；紫外一可见透过谱；吸收系数；光学带隙中图分类号：TN31M．2 文献标识码：A and of Films PreparationOpticalPropertiesPbl2 by ElectronBeam Technique Evaporation Jun ZHU尉ng—hua，YANGDing—yu，WEIZhao-rong，SUNHui，LI Xiu-ying，YANG Le-zhong，GAO of ofInformation (School Technology，ChengduUniversity Technology，Chengdu610225，China) Optoelectronic 30 12 (Received January2010) November2009，accepted films beam under of electron Abstract：Optical by evaporation propertiesPbl2 deposited technique differentconditionswere XRDresultsrevealthatthe are hexagonal investigated．The preparedsamples structure．TheEDX showsiodinecontentofthe decreasestobe polycrystalline analysis