紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征.pdfVIP

第35卷 第1期 稀有金属材料与工程 、，oI．35．No．1 2006年 1月 Januaw2006 紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征 赵青南1，倪佳苗1，张乃芝1，赵修建1，姜宏2，王桂荣2 (1．武汉理工大学硅酸盐材料上程教茸部重点实验室，湖北武汉430070) (2中国洛阳浮法玻璃集团有限公司，河南洛阳471009) 了玻璃基Tiorce0：薄膜。溅射过程中，工作气压保持在1．8Pa不变．玻璃基片温度从室温(RT)～220℃之间变化。崩 结构、表面组成、表面形貌和镀膜试样的紫外一可见光透过率。结果表明，薄膜表面结构平滑、致密，呈微小晶粒结构， 以有效地截止紫外线。 关键词：射频溅射；玻璃基Tio，一ce02薄膜：紫外光截止镀膜玻璃；基片温J皇 中图法分类号：O647 文献标识码：A 文章编号：1002—185x(2006)01—0142—04 形貌和紫外一可见光谱透射性能，并对得到的结果进行 1 引 言 了讨论。 浮法玻璃璃是目前最重要的建筑采光材料之一。 2实验 太阳光中的紫外光(大约含有4％)可以通过这些普通 的浮法玻璃透射到窜内。室内的某些物质(例如：纺 2．1靶材制备 织品、塑料制品、纸张、家具等)在紫外线的累计照 ce02按l：l的摩尔比配料， 化学纯试剂Ti02币I 射下，会产生褪色、老化现象，影响这些物质的耐久 用电动玛瑙碾钵经过48h湿磨、、泄均，然后烘干、压 mm 性。在许多使用玻璃的场所，如：博物馆、汽车等领 片，在火约1050℃烧结8h，最后得到尺、j‘为毋56 域，就需要紫外线截止玻璃来阻止章内的物质被紫外 ×5mm的Ti02一ce02陶瓷靶材。 线损坏。冈此，阻止紫外线或吸收紫外线镀膜玻璃已 22薄膜沉积 引起人们的关注。尽管已经报道【o”，用s01．gel方法 用射频磁控溅射镀膜机，溅射制备镀膜试样的条 可以在玻璃基上镀TiO：一ce02膜，用来吸收一定量太 8 阳光中的紫外线。但是，众所周知，用s01．gel方法制≥99．9％)；工作气压：1 各的浮法玻璃基镀膜玻璃的膜层耐磨性差，膜表面粗 糙，影响镀膜玻璃的耐久性；另外，用s01．gel方法人溅射时问：lh：溅射功率：80w；靶材与基片问的距 而积镀膜时，膜层的厚度均匀性差Hl。在实际普通浮 离：8cm。 法玻璃镀膜生产线上，磁控溅射法是最常用的方法口l， 用普通气体流量计控制氧气与氩气的流量，保持 它的生产效率高、所得膜层的厚度均匀性好、产品质 工作气压为1．8Pa。在每一次开始溅射镀膜前，先在 量稳定，并且可以灵活地改变产品的品种。 纯Ar气的气氛下清洗靶材2min。溅射过程中等离子 本研究自制了Ti02．ce02陶瓷靶材，用射频磁控体稳定。试样编号与溅射条件见表1。 溅射法在普通浮法玻璃基片上沉积了TiO：，ce02薄 表1玻璃基Tio：．Ceo：薄膜的沉积条件 膜。分别用x射线衍射(XRDl、x射线光电子能谱 (xPs)、扫描电子显微镜(sEM)、透射电镜(TEM)