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缓冲溶液沉淀法制备氧化镁稳定氧化锆纳米粉体.pdf

第38卷 增刊2 稀有金属材料与工程 V01.38,Suppl.2 AND 2009年 12月 RAREMETALMATERIALSENGINEERING December2009 缓冲溶液沉淀法制备氧化镁稳定氧化锆纳米粉体 苏存萍1,2,3林元华2,邓旭亮1,胡晓阳1,马琦1,王 勇1 (1.北京大学口腔医学院,北京100081) (2.清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084) (3.佳木斯大学口腔医学院,黑龙江佳木斯154002) 差热分析、x射线衍射、透射电镜等对所得粉体进行测定分析。结果表明:获得了粒径lO~20Bm淡黄色氧化镁稳定的 氧化锆陶瓷(MgO.Zr02)粉体。在稳定剂浓度为10mol/L时,可获得纯的四方相氧化锆纳米粒子,有望用于口腔齿科 材料中。 关键词:缓冲溶液沉淀法;MgO.Zr02;稳定剂 文献标识码:A 中图法分类号:TQl74.75+8.1l 文章编号:1002.185X(2009)$2.0319.03 氧化锆陶瓷体系因其突出的力学和生物学性能, 次,以充分去除沉淀表面所吸附的水。洗涤后的沉淀 am 开始成为国内外口腔生物材料开发的热点瓷材。目前, 在70℃干燥后研磨,600℃煅烧2h后,即得10~20 对于氧化锆陶瓷体系用于齿科材料的研究多集中在氧 的MgO—Zr02纳米陶瓷粉体。 化钇稳定的氧化锆上,且不同程度地存在材料强度高 而韧性差、疲劳强度降低、加工性能不稳定、合成工 粉末的热分解过程、产物和物相以及显微结构进行了 艺复杂等缺陷。而氧化镁稳定氧化锆陶瓷材料 分析。 (MgO-Zr02),可以在增强强度的同时提高韧性,优化 2结果与讨论 了材料性能,同时其合成工艺弥补了上述缺陷【11。 MgO.Zr02粉体制备方法较多,如固相法、溶胶凝胶法 冲溶液沉淀法制备氧化镁稳定氧化锆粉体的过程由下 (s01.gel)、水热法、高能球磨法、共沉淀法等。各种 不同方法制备的粉体有着各自不同的优缺点,性能也 列反应组成: 不尽相同[1“41。 本实验利用缓冲溶液沉淀法制备超细MgO.Zr02 (2) 粉体[2】,并研究了工艺对粉体性能的影响。 ZrO(OH)2-*Zr02+H20 (3) Mg(OH)2}MgO+H20 (4) 1 实验 从上述反应可知缓冲溶液沉淀法制备MgO.Zr02 选用氧氯化锆、氨水、碳酸氢氨、无水乙醇、氯 纳米粉体的方法虽比较简单,但制备工艺条件对纳米 化镁、聚乙二醇、硝酸银为原料来制备MgO.Zr02粉粒子的大小和形貌有着重要影响。 2.1表面活性剂的影响 体。首先,将分析纯ZrOCl2溶解于无水乙醇,配成锆 离子浓度为0.2mol/L的溶液。按化学量加入化学纯 表面活性剂聚乙二醇作为分散剂,能够通过粒子 MgCl2,再加入聚乙二醇分散剂,充分混合溶解。在间形成“位阻效应”,削弱粒子之间的范德华力,从而 搅拌的条件下,将上述溶液缓慢滴入氨缓冲液,形成 有效地减少团聚。本实验加入聚乙二醇(相对分子质

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