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聚酰亚胺多层膜的制备及其在非线性光学中的应用.pdf

第4期 高分子学报 No.4 2008年4月 ACTAPOLYMERICASINICA Apr.,2008 ·研究简报· 聚酰亚胺多层膜的制备及其在非线性光学中的应用+ 宋乃恒1*+王植源2” (。北京分子科学国家实验室教育部高分子化学与物理重点实验室北京大学化学学院北京大学北京 100871) (2 Colonel 586 DepartmentofC枷stry,CarletonUniversity.1125byDrive,Ottswn,Ontario,KISCanada) 摘要 报道了一种通过旋涂制备NLO聚合物多层膜的方法.紫外.可见吸收光谱及膜的厚度表征说明,在 所得多层膜的结构中,聚合物单层膜的厚度可以较好地控制在100.200rim之间,所得含有5个双层的NLO 多层膜(厚度1.6舯)具有良好的结构均一性,光学显微镜下没有观察到明显的结构缺陷.与单层具有较大厚 度的NLO聚合物薄膜(如2—4肛m)相比,所得聚合物多层膜可以允许掺杂更多的发色团而不发生相分离. 关键词 聚酰亚胺多层膜,非线性光学。制备,光学性质 非线性光学(NLO)聚合物在超高速电光调制聚酰亚胺)等方法得到一定程度的改善,但效果并 领域具有广阔的应用前景,其合成与器件研究一 不十分理想.因此开发新的NLO材料的制备方 直是受到广大科研工作者们的密切关注n’2].近年 法,综合优化NLO聚合物的材料性能一直是该领 来,美国华盛顿大学的Jen和Dalton等在NLO聚 域的研究热点和难点. 合物的材料合成发方面取得了突破性的进展,制 将具有高NLO活性的发色团引入到超薄的 备了高效的NLO发色团和基于这些发色团的新 rim)中,并使其与另外 聚合物薄膜(e.g.,100 型大分子和聚合物材料b“1,这些NLO材料经电一种不含有发色团的聚合物薄膜交替叠层,可望 场极化后,其电光活性可高达300 pm/V,是无机 制备新型、具有良好综合性能的NLO聚合物多层 晶体材料铌酸锂(h=31 pm/V)的10倍,从而大膜材料.在该多层膜结构中,由于NLO聚合物层 大提高了有机NLO聚合物相对于无机NLO晶体与层之间存在一层聚合物间隔层,因此可以有效 材料的优越性.然而尽管如此,想要真正实现NLO 地改善在薄膜加热过程中因为热对流而造成的发 聚合物的商业化及其在电光器件中的广泛应用目 色团之间的聚集,同时,也可以减少在电场极化过 前还有待于获得具有优良综合材料性能(如电场 程中的电击穿现象.另外,当聚合物薄膜的厚度足 极化效率、取向稳定性、成膜性、光化学稳定性、光 够小时,发色团在其中的松弛将可能会受到限制, 损耗等)的新型NLO聚合物. 从而可以提高极化材料的取向稳定性.目前,利用 NLO聚合物的制备通常可以分为两种方法, 多层膜的方法制备NLO材料的研究鲜见报道. 一是将发色团通过物理掺杂的方法引入到聚合物 本文报道了一种基于旋涂法制备NLO聚合 体系中;二是通过化学键将发色团与聚合物的主 物多层膜的方法.关于利用交替旋涂制备光学均 链或侧链相连,制备共价型聚合物材料.相比较而 一性聚合物多层膜的方法我们已有报道n】.针对 言,共价型NLO聚合物在提高发色团数密度和取 旋涂法制备多层膜对发色团溶解性的要求,还合 向稳定性方面具有显著的优越性,但物理掺杂方 成了一种新型的电荷分离型NLO发色团(BPIPP- 法更加简便,在材料制备过程中可以很容易地进

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