脉冲激光沉积技术制备薄膜锂电池.pdfVIP

赵胜利等：脉冲激光沉积技术制备薄膜锂电池 脉冲激光沉积技术制备薄膜锂电池。 赵胜利1，文九巴1，樊丽梅1，秦启宗2 要： laser 摘 脉冲激光沉积(pulseddeposition， 2 PLD技术的原理与特点 PLD)是20世纪80年代发展起来的一种全新的制备 薄膜技术，具有沉积速率高，再现性能好等优点。近年 2．1 PLD技术的原理 来，利用PLI)技术在全固态薄膜锂电池的研究中取得 许多有意义的结果。一系列新型、高质量的电池薄膜 束聚焦于靶表面，产生高温及熔蚀，并进一步形成高 材料被成功制备；原位组装的薄膜锂电池表现出良好 温、高压等离子体，定向局域膨胀发射，最后在基片上 的电化学性能。本文简要介绍了PLD技术的原理和 沉积形成薄膜。整个沉积过程可以分为3个阶段o]。 特点；重点评述PLD在全固态薄膜锂电池阴极薄膜、 2．1．1激光与靶作用 阳极薄膜和电解质薄膜制备中的应用状况。 该过程决定了烧蚀物的组成、产率、速度与空间分 关键词：脉冲激光沉积：薄膜锂电池；制备；评述 布，而这些将直接影响薄膜的成分、结构和性能。当激 文献标识码：A 中图分类号：TM91l；TM912．9 光辐射在靶上时，靶表面温度将持续上升，直到蒸发开 04 文章编号：1001—9731(2006)02一0169 始；蒸气的温度很高，足以使相当多的原子被激发和离 子化，导致靶材料以等离子体的状态喷出。激光与靶 l 引 言 微电池在未来便携式电子设侪、国防装备及微电 子机械系统(MEMs)等方面有着广泛的应用前景，已而是烧蚀，这是PLD能保持靶和薄膜成分一致的根本 成为微电子、电池领域研究的热点。目前，国内外积极 原因。在脉冲激光辐照靶期间，等离子体屏蔽效应使 开展研究的微电池系列有：锂电池、锌镍电池、太阳能 激光与靶子作用时等离子体的温度大大提高，获得更 电池、燃料电池等。其中，薄膜锂电池因高能量密度、 高的能量，提高其活性，从而有利于获得高质量薄膜。 高电压、长循环寿命、安全可靠等优点倍受重视[1一。人 2．1．2烧蚀物的传输 们对锂电?电电极薄膜和电解质薄膜的制备、结构、性能 烧蚀物在空间的传输是指激光脉冲结束后，烧蚀 及应用进行了全面研究，已经开发出电子束沉积(elec物从靶表面到基片的过程。PI．D制备薄膜时往往有 tronbeam deposition，EBD)、射频磁控溅射(RFmag— 一定压强的气氛存在，因此烧蚀物在传输时将经历碰 netro“sputteri“g，RFMs)、静电喷雾沉积(electro—撞、散射、激发及化学反应等过程，而这些过程又影响 static spraydeposition，EsD)、化学气相沉积(chemi和决定烧蚀物到达基片时的状态、数量、动能等，最终 cal vapordeposition，cVD)、溶胶一凝胶(501一gel，s—G)决定薄膜的成分、结构和性能。 等制备方法”]。 2．1．3烧蚀物在基片上成膜 上述制备方法各具特色，但也存在自身的局限性。 等离子体中的粒子扩散并吸附在基片表面，发生 laser 脉冲激光沉积(pulseddeposition，PLD)是上世 化学反应、表面迁移等过程，同时一部分生成物由表面 纪80年代发展起来的一种全新的制备薄膜技术，薄膜 解析、扩散而离开表面。留在基片表面的粒子结台在 制备时沉积、晶化、成型等一次完成，沉积速率高，参数 一起形成原子团，具有一定数量原子的原子团不断吸 易控制。该技术已在制备