脉冲高能量密度等离子体沉积(Ti,Al)N薄膜组织及其性能研究.pdfVIP

第54卷第3期2005年3月 物理学 报 1000—3290／2005／54(03)／1301．05 ACTAPHYSICASINICA ⑥2005 Chin．Phys．Soc． 及其性能研究* 刘元富1’2’+韩建民1’ 张谷令2’ 王久丽2’ 陈光良2’ 李雪明3’ 冯文然2’ 范松华2’ 刘赤子2’ 杨思泽2’ 1’(北京交通大学机械与电子控制工程学院，北京100044) 2’(中国科学院物理研究所，北京 100080) 3’(北京科技大学材料科学与工程学院，北京 100083) (2004年5月12日收到；2004年5月27日收到修改稿) 利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在45。钢基材表面沉积了高硬度耐腐蚀(Ti，A1)N薄膜．利 用扫描电子显微镜、x射线衍射、x射线光电子能谱、俄歇电子能谱分析了薄膜的显微组织．利用纳米压痕仪测试了 薄膜的纳米硬度．测试了薄膜在O．5mol／L H2S04水溶液中的耐蚀性．测试结果表明：薄膜主要组成相为(Ti，A1)N， GPa，薄膜具有良好的耐蚀性，与1Crl8Ni9Ti奥氏体不锈钢相比，耐蚀 同时含有少量的A1N，薄膜的纳米硬度高达26 性提高了一个数量级． 关键词：脉冲高能量密度等离子体，薄膜，纳米硬度，耐蚀性 PACC：5275R，8115N，6220M，8160 较高的结合强度‘4-6|．迄今为止，采用脉冲高能量 1．引 言 密度等离子体技术已成功制备出了立方BN、Ti (CN)、类金刚石、TiN等硬质薄膜n_10I，脉冲高能量 (Ti，A1)N薄膜具有硬度高、耐磨性好、抗氧化密度等离子体陶瓷表面金属化的研究工作业已取得 性及耐蚀性优异等显著特点，与TiN，TiC，Ti(C，N)一些阶段性成果H1|．本文利用脉冲高能量密度等离 等硬质薄膜一起被广泛用作刀具、模具的表面改性 层u_31．上述薄膜的制备以物理气相沉积(PVD)和为主要组成相的表面改性膜层，分析了薄膜的相组 成和显微组织，测试了薄膜的纳米硬度分布及其在 化学气相沉积(CVD)为主．PVD和CVD是两种常用 0．5mol／L 的工艺较为成熟的薄膜制备手段．PVD工艺工作温 H，S04水溶液中的耐蚀性． 度较低(180--500。C)，沉积薄膜的厚度有限，膜基结 合强度较低．CVD工艺制备的薄膜具有较高的膜基 2．实验方法 结合力，但工作温度较高(750--1000。C)，由此导致 基体变形倾向性增大．脉冲高能量密度等离子体技 脉冲高能量密度等离子体薄膜沉积装置为本课 术是近年来发展起来的较新的等离子体材料表面改 题组自行研制，其详细工作原理如文献[8—11]所 性技术．该技术集高速淬火、溅射制膜和离子注入 述．选用纯度为99．9％的氮气作为工作气体，同轴 于同一过程，与常规PVD和CVD工艺相比较，其技枪内电极材料为工业纯钛，外电极材料为工业纯铝． 术优势在于：沉积可在室温条件下进行，基材基本无 薄膜的组织结构及成膜质量与沉积工艺参数密切相 变形；沉积速率高；产生的新相不受平衡相图的限制 关，其中充电电压和脉冲次数最为关键．综合考虑 (在合适的工艺参数下可获得亚稳相、微晶，甚至非 表面成形情况、组织致密程度、薄膜硬度、膜基结合