AF2400-SiO2疏水复合光学薄膜制备及其表征.pdf

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第 卷第 期 同济 大 学 学 报(自然 科 学 版) ’( * ]60’(F0* 年 月 ( ) !% * X@PYF,Z@AB@F[X\PF\]1Y?\B^ F,BPY,Z?Q\1FQ1 XT60!% ! ’() 疏水复合光学薄膜制备及其表征 #$%% # 汪国庆,沈 军,谢志勇,吴广明 (同济大学 物理系,上海 ) !)! 摘要:采用溶胶 凝胶工艺制备低折射率二氧化硅( )增透薄膜,用 ( )对薄膜进行表面处理得到 $ ?5@ ,A BC6D6 ! !( 疏水复合光学薄膜 对薄膜的表面形貌、疏水性能、光学性能等进行测试,结果显示 复合 ,A $?5@ 0 ,A $?5@ !( ! !( ! 光学薄膜表面平整,折射率为 ,疏水角可以达到 0! E !E0 关键词:光学薄膜;制备;溶胶 凝胶工艺; 疏水减反复合薄膜;无定形氟聚合物 $ ,A $?5@ ,A !( ! !( 中图分类号: ; 文献标识码: 文章编号: ( ) BF!() @(+(0( , !#’$’*(G !%*$)!($( !# %%’()%)*!#+(,%)-#(+.#/ *( .(1’-2)’3#+4#-’() $ 0 $ 25 $6’7 8(, (9’#5’4, !( ! $ , , , !#$$%() +,-#.%) /0-12() !4 $%5)6() ’ * 3 * * * ( , , , ) HC4IJ3CJDKL85=8 B 5P5:CI85J ?L4L45!)! QL54 ; M NO M N : 219%- ,J5ICD6C=J5:C?5@ =4J5 58 IC4ICRS5JL4862C6ITJC4RR5=4J5 4RJLC8TID4=CD

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