BaMoO4薄膜电化学制备适宜的工艺条件.pdf

BaM004薄膜电化学制备适宜的工艺条件 高道江，赖欣，毕剑 (四川师范大学化学与材料科学学院，四川成都610066) [摘要]为研究BaM004薄膜的电化学成膜机制，寻求适宜的制备工艺条件，采用恒电流沉积 究了温度和电流密度等工艺条件对制备的BaMoo。薄膜的影响。结果表明，制备的BaMoO。薄膜为四 方单相结构，室温、相对较低的电流密度条件下制备的BaM00。薄膜表面更均匀、致密。适宜的电化学 h。 制备BaMoO。薄膜的工艺条件为：室温，电流密度为O．3mA／cm2，溶液pH值为13，反应时间为1 [关键词]BaM00。薄膜；电化学制备；工艺；优化 0前言 1试验过程 白钨矿结构的钼酸钡薄膜是一种重要的光电 选用分析纯Ba(OH)：·8H：O为原料，以新煮 沸过的去离子水配制成0．1moL／L 功能薄膜材料，在光电领域有着重要的应用，具 Ba(OH)：溶液 mm× 有巨大的应用潜力。在低温下(液氮或液氦附 作为电解液。纯度为99．9％(规格为20．0 20．0mm×O．1 近)，钼酸钡薄膜受短波长的紫外光激发，会发 mm)的金属钼片经过去氧化皮、脱 出绿光或蓝光¨’2J。白钨矿结构的钼酸盐材料大 脂、活化等处理后，分别用作工作电极(阳极)和辅 mL0．1 多通过高温固相反应得到，这些高温反应常造成 助电极(阴极)。在塑料电解槽中加入200 MoO，的挥发，导致薄膜发生空洞或卷曲，严重影 响薄膜的微结构和质量，消耗能量，也同时影响 封电解槽。向电解液中通10min氮气以尽量赶走 环境。因此，开发一条温和条件的制备工艺路线 其中的CO：，然后开始电化学反应。 为了研究温度对成膜的影响，除改变反应温度 势在必行。 外，其他电化学工艺条件保持一致，即电解液都为 软溶液制备技术是制备白钨矿结构的钨酸盐、 o．1moL／L 钼酸盐薄膜的很好方法∞娟J。电化学制备技术就 本身的pH值)，电流密度均为1．omA／cm2，电化 是一条重要的制备技术，也对环境友好∽’10o。与传 学反应时间为1h。 统的薄膜制备工艺相比，这种制备方法具有反应速 为了研究电流密度对BaM00。薄膜的影响，在 率快、副产物少、能耗较低，对环境污染小等优点， 进行电化学反应时，除电流密度外，其他条件保持 一般能在常温常压下进行，很有发展潜力。 一致。即保持Ba(0H)：电解液浓度为0．1moL／L， 本工作采用恒电流工艺，以Ba(0H)：溶液为 其pH值为13(溶液本身的pH值)，温度为室温， 电解液，直接在钼基体上制备BaM00。薄膜，并研究