金刚石膜电化学清洗硅片表面有机沾污的研究.pdfVIP

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2015-09-19 发布于重庆
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金刚石膜电化学清洗硅片表面有机沾污的研究.pdf

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第29卷第3期半导体学报 V01．29No．3 SEMICoNDUCToRS 2008年3月 JoURNALOF Mar．，2008 ADiamondElectrochemical for CleaningTechniqueOrganic ContaminantsonSiliconWaferSurfaces Jianxin’，Liu Baimei，NiuXinhuan，Bian Zhang Yuling，Tan Yongchao， Ga0 HuangYanyan Baohong，and (InstituteMicroelectronics，Hebeiof 300130，China) of UniversityTechnology，Tianfin be Abstract： anion(a oxidant)canformedina water-based Peroxodiphosphatepowerful special cleaningagentthrough anelectrochemicalreactionon diamondelectrodes．Thiselectrochemicalreactionwas theoxi- boron-doped appliedduring removalof contaminationsonasiliconwafersurface，anditwasusedasthefirst in dation，decomposition，andorganic step thediamondelectrochemical effectsofDECTwere withtheRCA cleaningtechnique(DECT)．Thecleaning compared thesiliconsurfacechemical thatwasobservedwith technique，including composition X—rayphotoelectronspec- cleaning andthe observedwithatomicforce measurementresultsshowthatthesiliconsur- troscopy morphology microscopy．The facecleanedDECThas less residueandlower thenew ismoreeffective by organic technique slightly micro-roughness,SO thantheRCA