氧分压对BiFeO3薄膜能带结构和折射率的影响及其光学表征.pdfVIP

氧分压对BiFe03薄膜能带结构和折射率的影响及其光学表征’ 宋贵芝，陈长乐，罗炳成，周超超 (西北工业大学凝聚态结构与性质陕西省重点实验室，陕西西安710129) 摘 要： 采用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了 酸为分散剂。为防止Bi挥发，制备过程中多加5％ BiFeO。薄膜，通过透射光谱和椭圆光谱研究了氧分压mol 对BiFeO。薄膜能带结构及光学性能的影响。结果表 明，BiFeO。薄膜在近红外区具有良好的透射性，透射 率均在80％以上，其禁带宽度E。=(2．79±0．03)eV。薄膜沉积过程中衬底温度保持为Ys一530℃，本底真 随着氧分压的增大，BiFe03薄膜中氧缺陷及氧缺陷能 级减少，导致透射率和禁带宽度均增大。同时发现， 比例混合的()。和Ar，气压保持在5Pa。 0JL色散模型与Cauchy色散模型的叠合能够对 BiFeO。薄膜的椭圆光谱进行很好的描述。 关键词： 多铁材料；椭圆光谱；OJL色散模型 中图分类号：0484 文献标识码：A 文章编号：1001-9731(2010)05-0899-04 1 引 言 70。，起偏角45。，波长范围为450～900nm。 多铁材料由于具有丰富的物理内涵及其在存储 3结果与讨论 器、光学元件等器件中的广泛应用，已成为凝聚态物 3．1 理、材料物理等领域的研究热点之一[1~6]。早期的多 结构分析 铁性研究集中于复合材料方面[5“]，随后在YMno。， TbMn03，BiFe03及BiMn0。等单相多铁材料口’81发图中可看出，靶材为纯相BiFeO。，而薄膜衍射峰不明 现了多铁性，其中BiFeO。因具有室温以上的铁电有序显，说明在玻璃衬底上沉积的薄膜样品为非晶结构。 和磁有序(铁电转变温度L约1103K，反铁磁转变温 度丁。约643K)[9 010]而成为目前最受关注的多铁材料 之一。室温下BiFeO。为畸变菱形钙钛矿结构(口=6= j 墨 c=0．563nm，Ot=口=’，=59．4。)，磁结构为空间调制的 重 不均匀反铁磁序，宏观上表现弱磁性【11|。BiFeO。的研 罢 究主要是在铁电性和磁性两方面，而对其光学性能的 研究较少Ll2|。Ihlefeld等研究了BiFeO。薄膜的二次 谐波效应E13]，Kumar等用椭圆偏振光谱仪对BiFeO。 5] 薄膜的光学性质进行相关研究D4]。此外，Palkar等[1 j 是 认为在沉积过程中，BiFeO。薄膜对氧分压十分敏感， 置 。丽 氧分压的偏差会导致铁离子从3价降低到2价，从而 C 卫 产生大的漏电流。本文通过透射光谱和椭圆光谱来研 三 究氧分压对BiFeO。薄膜能带结构和折射率的影响。 2 实验过程 201(。) 图1 BiFe0。靶材和薄膜的XRD衍射图 1 XRD of andfilm 利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备BiFeO。薄 Fig patternsBiFe03target 3．2透射光谱分