微系统中的电化微加工技术——约束刻蚀剂层技术研究.pdfVIP

厦门大学博士后研究报告 孙建军 微系统中的电化学微加工技术—— 约束刻蚀剂层技术研究 摘 要 ＼微系统技术将成为21世纪人类社会发展的关键技术之一。建立在平面硅 加工工艺基础上的体硅工艺以及基于电化学方法上的LIGA等加工技术，已成 为加工简单立体微结构比较成熟的技术，在微系统的发展中起到了重要的作 用。为了满足制作结构更为复杂、功能更为强大的微系统的需要，人们一直在 寻求加工复杂三维立体微结构的加工技术。 1992年，田昭武等提出了复杂三维超微图形加工技术——约束刻蚀剂层 技术(CELT)。它的基本思想是约束刻蚀，具有距离敏感性及控制刻蚀保留量 等特点，用(光)电化学方法在微米及纳米尺度上的实现三维微图形的复制加 工。厂 本文主要包括以下几方面内容： 1．回顾了微系统的发展历史，论述了微系统与电化学之间的关系，包括 电化学在微系统中的应用以及微系统在电化学中已有的应用和将来可能的应 用。具体的例子有半导体芯片上电沉积cu布线工艺、LIGA技术、EFAB技术、 Schuster的电化学微加工方法、微