磁控溅射法制备i膜及其改性后tio2薄膜的结构和性质研究.pdfVIP

硕士论文 磁控溅射法制备Ti膜及其改性后Ti02薄膜的结构和性质研究 摘 要 Ti02是人们公认的性能优异的光催化剂，它具有性质稳定、经济实惠、无毒等优点。 但是Ti02在光催化降解污染物时，对太阳光的利用率较低，并且对污染物的降解率有 限，这使得它的广泛应用受到了限制。因此，人们针对如何提高Ti02的太阳光利用率 及提高光催化降解效率开展了大量研究。 本文采用磁控溅射技术制备了Ti薄膜，研究制备过程中工艺参数：溅射压强、功 子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)等测试方法对薄膜结构和形貌进行表征。 结果表明，磁控溅射法制备的Ti膜，在未经任何处理的情况下为非晶态Ti膜，并且当 膜。 分别采用退火氧化法和低温双氧水法对磁控溅射法制备的Ti膜进行后期处理，制 备Ti02薄膜。对于退火氧化法，探讨了退火温度并结合制备Ti膜时的工艺参数对Ti02 薄膜结构及表面形貌的影响。对于低温双氧水法，探讨了经预处理的Ti膜在前驱液中 的沉积时间以及制备Ti膜时的溅射压强对Ti02薄膜结构及形貌的影响。研究表明，当 退火温度为800℃时，薄膜开始由锐钛矿型向金红型转变；将溅射功率为150W、溅射 时制备的Ti膜置于H20