soc工艺课件ch物理气相淀积资料.ppt

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本章主要内容 8.1PVD概述 8.2真空系统及真空的获得 8.3真空蒸镀 8.4溅射 8.5PVD金属及化合物薄膜 物理气相淀积(Physical vapor deposition,PVD)是利用某种物理过程实现物质转移,将原子或分子由(靶)源气相转移到衬底表面形成薄膜的过程。 淀积方法: 真空蒸镀:在高真空环境加热原材料使之气化,源气相转移到衬底,在衬底表面凝结形成薄膜的工艺方法。 溅射:在一定的真空环境下电离气体,使之形成等离子体,带正电的气体离子轰击靶阴极,逸溅出的靶原子等粒子气相转移到衬底表面形成薄膜的工艺方法。 PVD常用来制备金属薄膜:如Al, Au, Pt, Cu,合金及多层金属。 8.2真空系统及真空的获得 低真空:1~760Torr,102~105Pa 中真空:10-3~1Torr,10-1~102Pa 高真空:10-7~10-3Torr,10-5~10-1Pa 超高真空:<10-7Torr, < 10-5Pa 8.2.2真空的获得方法 真空泵:以物理方式抽取真空室气体提高室内真空度的设备。 初、中真空度的获得采用机械泵。通过活塞、叶片、柱塞的机械运动将气体正向移位。 三个步骤:捕捉气体、压缩气体、排出气体。 机械泵也称为压缩泵。 压缩比:压缩泵气体出口和入口的压力比成为压缩比。 8.2.2真空的获得方法 旋转叶片机械泵主要由定子、转子、旋片、定盖、弹簧等零件组成。 其结构是利用偏心地装在定子腔内的转子和转子槽内滑动的借助弹簧张力和离心力紧贴在定子内壁的两块旋片。 两个旋片把转子、定子内腔和定盖所围成的月牙型空间分隔成A、B、C三个部分,不断地进行着吸气、压缩、排气过程,从而达到连续抽气的目的。 机械泵是初级真空设备,入口的极限真空度可达0.1Pa。 8.2.2真空的获得方法 扩散泵 高、超高真空度的获得通常实在初级泵气体入口串接次级泵,常用的次级泵是扩散泵,压缩比可达108 。 油扩散泵主要由泵体、扩散喷嘴、蒸气导管、油锅、加热器、扩散器、冷却系统和喷射喷嘴等部分组成。 原理:通过加热使扩散泵油挥发,蒸汽流碰到水冷的泵体后凝结回流的过程中携带气体分子到达泵体底部,之后被初泵抽走。 涡轮分子泵 1958年,联邦德国的W.贝克首次提出有实用价值的涡轮分子泵。 原理:利用高速旋转的动叶轮将动量传给气体分子,使气体产生定向流动而抽气的真空泵。 涡轮分子泵主要由泵体、带叶片的转子(即动叶轮)、静叶轮和驱动系统等组成。 动叶轮外缘的线速度高达气体分子热运动的速度(一般为150~400米/秒)。具有这样的高速度才能使气体分子与动叶片相碰撞后改变随机散射的特性而作定向运动。压缩比可达109 。 8.2.3真空度的测量 电容式压力计:测量真空室和参考容积之间的压力差产生机械偏移量得到真空度的方法。 热偶规:利用热电偶的电势与温度有关,而温度与气体的热传导有关的原理测量真空度。 电离规:热阴极发射电子电离气体分子,离子被收集集所收集,根据收集的离子流量来测量气体的压强。 复合真空计:由热偶规与热阴极电力计组成。 B-A规(热阴极电离规) :一种阴极与收集极倒置的热阴极电离计。 真空蒸镀又称真空蒸发,将装有衬底的真空室抽吸至高真空度,加热原材料使其升华,形成源蒸汽流入射到衬底表面,在衬底凝结形成固态薄膜的一种工艺。 三个基本过程:蒸发过程→气相输运过程→成膜过程; 优点: 设备简单,操作容易; 所制备的薄膜纯度较高,厚度控制较精确,成膜速率快; 生长机理简单; 缺点: 所形成的薄膜与衬底附着力较小; 工艺重复性不够理想; 台阶覆盖能力差; 常用金属的平衡蒸汽压温度曲线 蒸发过程:蒸发源原子从液(固)表面溢成为蒸汽原子的过程; 蒸汽压:指在液(固)表面存在该物质的蒸汽,这些蒸汽对液(固)表面产生的压强就是该液(固)体的蒸汽压。 平衡(饱和)蒸汽压:一定的温度下,与同种物质的液态(或固态)处于平衡状态的蒸汽所产生的压强叫饱和蒸汽压。 蒸镀真空示意图 8.3.2蒸镀设备 设备由四部分组成: 真空室:蒸发过程提供真空环境,金属钟罩和平台构成; 真空系统:包含多级真空泵、阀门、真空规及真空管路; 检测系统:对薄膜厚度、淀积速率、成分进行检测装置; 控制台:进行真空蒸镀的操作平台(电控和机械部分); 8.3.2蒸镀设备 蒸镀主要采用的加热器类型及性能: 电阻加热蒸镀 电感加热蒸镀 电子束加热蒸镀 8.3.2蒸镀设备——电阻加热器 电阻加热器 利用电功率使源蒸发,加热材料制成螺旋式(丝状源)、锥形篮式(颗粒状源)、舟式(粉末状源)、坩埚式等式样。 电阻加热材料要求:熔点要高;饱和蒸气压要低;化学稳定性好;被蒸发材料与加热材料间应有润湿性(面/点蒸发)。 出现最早,工艺简单;但有加热器污染,薄膜台阶覆盖差,难镀高熔点

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